Wybór kraju/regionu i języka

Najważniejsze zastosowania laserów w produkcji półprzewodników

Zachęcamy do zapoznania się z naszą infografiką, która w przystępny sposób przedstawia kluczową rolę technologii obróbki laserowej w produkcji półprzewodników, od kryształu krzemu po gotowy mikroczip. W fazie początkowej procesy laserowe mogą towarzyszyć cięciu, naświetlaniu, wytrawianiu, domieszkowaniu i wygładzaniu wafli, podczas gdy precyzyjne pomiary laserowe mogą zapewnić jakość. W zapleczu produkcyjnym lasery mogą służyć do rozdzielania, łączenia, laserowego procesu strukturyzacji i znakowania chipów. Prezentacja jasno pokazuje, w jaki sposób producenci chipów mogą wykorzystywać lasery w wielu procesach: jako narzędzie zapewniające najwyższą precyzję, wydajność i jakość.

Ingot Slicing Inspection & Metrology Exposure DUV/EUV Laser Annealing Laser Assisted Etching Grooving Laser Dicing PCB / Substrate / Interposer Via Drilling Laser Assisted Confined Ablation Laser Assisted Soldering Laser Micro Welding Laser Beam Assisted Bonding Temporary (De)Bonding Redistribution Layer Structuring (RDL) Marking Laser Depanneling

1. Ingot Slicing

Laser tnie monokryształ krzemu na niezwykle cienkie wafle, nie naruszając materiału.

2. Inspection & Metrology

Bezkontaktowe pomiary laserowe i wykrywanie błędów zapewniają kontrolę jakości i procesu po niemal każdej czynności w odlewni.

3. Exposure DUV/EUV

Lasery są niezbędne do zapewnienia promieniowania głębokiego ultrafioletu (DUV) lub ekstremalnego ultrafioletu (EUV) do procesu naświetlania.

4. Laser Annealing

Laser podgrzewa przez kilka nanosekund wybrane obszary powierzchniowe wafla. Naprawia to defekty kryształów i aktywuje domieszki.

5. Laser Assisted Etching

Laser podgrzewa określone obszary, aby przyspieszyć lokalne wytrawianie. Jest to szczególnie pomocne w przypadku złożonych kształtów.

6. Grooving

Laser wycina drobne rowki (grooves) w materiale waflowym lub podłożu. Zmniejsza to mechaniczne obciążenie podczas późniejszego cięcia i zwiększa wydajność.

7. Laser Dicing

Promień lasera tnie wafel bezpyłowo na pojedyncze chipy (matryce). Procesy laserowe są szczególnie często stosowane w przypadku bardzo cienkich wafli.

8. PCB / Substrate / Interposer Via Drilling

Lasery wiercą niewielkie połączenia przechodzące (vias) w płytkach obwodu drukowanego, podłożach i warstwach izolacyjnych. Umożliwiają one na przykład pionowe połączenia poziomów obwodów w chipach 3D.

9. Laser Assisted Confined Ablation

Laser przeprowadza precyzyjną obróbkę ubytkową, na przykład w celu odsłonięcia trudno dostępnych punktów styku.

10. Laser Assisted Soldering

Laser podgrzewa niewielkie miejsca lutowania, łącząc w ten sposób chip i element nośny.

11. Laser Micro Welding

Promienie lasera topią cienkie druty w określonych punktach, łącząc w ten sposób miejsca styku.

12. Laser Beam Assisted Bonding

Laser przygotowuje termokompresyjne łączenie chipa i podłoża lub obudowy poprzez precyzyjne dostarczanie energii cieplnej.

13. Temporary (De)Bonding

Laser wspomaga niezbędne tymczasowe łączenie (bonding) lub rozłączanie (debonding) chipów i nośników podczas przetwarzania.

14. Redistribution Layer Structuring (RDL)

Laserowy proces strukturyzacji cienkiej warstwy metalu (warstwy redystrybucyjnej) przekazuje sygnały z chipa na zewnątrz i łączy ze sobą kilka chipów.

15. Marking

Lasery znakujące nanoszą numery seryjne, kody matrycowe lub logo na chipie i obudowie.

16. Laser Depanneling

Promień lasera oddziela poszczególne chipy, moduły lub elementy płytek obwodu drukowanego od większego zespołu (panelu).

Kontakt
Dr. Ulf Quentin
Dystrybucja techniki laserowej
E-mail

Felix Reichenbach
Dział sprzedaży energoelektroniki
E-mail