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Diraシリーズのレーザからは、パルス幅がピコ秒レベルでパルスエネルギーが最大200 mJのパルスが供給されます。なおこのパルスエネルギーは、現時点で再生増幅器で生成可能な最高の数値です。

光パラメトリック増幅器は、数サイクルで広帯域光パルスを生成するための高性能ツールとしての地位を確立しています。この増幅器は現時点で、当該パルスを数mJレベルで生成するための唯一の手段です。

TRUMPF Scientific Laserはフェムト秒パルス同期、カスタマイズ型レーザヘッドコントローラ、ディレイジェネレータや光学系コンポーネントなど、レーザ装置の統合と最適化用の各種ツールをお客様に提供しています。

超短レーザパルスは、誘電体の除去に理想的です。高出力を誇るAMPHOSレーザ装置では、高い除去率がすぐに得られます。調査の結果、除去率は出力と正比例していることが判明しています。

透明体の3Dストラクチャリングでは、「選択的レーザエッチング」 (ISLE - In Volume Selective Laser Etching) と呼ばれる革新的な工法があります。まず最初にfsレーザ光線で材料を改質します。その次に、改質した部分を標準的なエッチングプロセスで除去します。

AMPHOSレーザ装置は複合材料の加工に最適です。吸収プロセスが非線形であるため、異種材料を一定の高品質で除去することができます。例えばCFRPやGFRP材を150 Wの出力で、2～3 mm²/sの極めて高い除去率で加工することができます。

Access Laserの産業用高性能レーザ製品は、産業用切断、溶接、マーキングとコーディング用に世界中で使用されています。またこのレーザは、口腔外科との肌再生の領域でも実績を残しています。

安定化レーザで業界をリードする当社の製品群では、ファン冷却仕様でも水冷仕様でも、高出力と同時に精度2%の波長が得られます。すなわちAccess Laserでは、接触切断 (選択的深さ)、薄膜除去とガラス繊維製造で比類のない性能を提供しています。

Access Laserの安定化レーザは、多種多様な学術用途に適しています。このレーザは、分光学、微量ガス分析、呼気分析や環境監視などの分野での研究開発で様々な可能性を開拓しています。