1990年にTRUMPFの一員となったHÜTTINGER

マイクロチップ、フラットスクリーンやソーラーセルなどは、全てが革新的なプラズマ技術の賜物です。材料の成膜と剥離を的確に行って初めて、ナノメートルレベルの薄い膜が必要条件であるハイテク製品が実現します。しかしプラズマなしにプラズマ技術は成立しません。TRUMPF Hüttingerのジェネレータでは、幅広い範囲の出力と周波数が提供されており、プラズマの確実な点火と安定した燃焼が保証されます。

誘導加熱は難度の高い熱処理に適したソリューションであり、あらゆる加熱方法の中で最も高い効率を誇ります。誘導加熱では温度の範囲に関して制限がほとんどないため、ユーザーは自分の希望に合わせて極めて柔軟に温度を設定することができます。TRUMPF Hüttingerのジェネレータは誘導硬化や封印などの典型的なプロセスだけでなく、結晶育成などの特殊アプリケーションにも使用可能です。

インバータはモジュール構造になっているため、キロワットからメガワットに至るまで、様々な出力クラスの蓄電ソリューションに使用することができます。革新的な技術コンセプトにより、バッテリーシステムの運転時に最適な作動点と最高の効率を、エネルギー供給装置から工業用アプリケーション、そしてメイン蓄電システムに至るまで、あらゆる使用領域で実現します。

TRUMPF Hüttingerのマイクロ波増幅器は、粒子加速器で使用されています。最新の半導体技術に基づいているため、電子、イオンや陽子などの粒子の加速に必要な出力が得られます。様々な出力クラスに合わせたカスタマイズ型システムソリューションが用意されており、総出力は数kWから百kWをはるかに上回るレベルまで、周波数帯域はMHzからGHzまで対応可能です。

TRUMPF Hüttingerが産業用加熱向けに提供している、半導体ベースのコンパクトなハイエンドマイクロ波ジェネレータは、難度の高い非接触式加熱タスクに最適です。均一かつ正確で、繰り返し精度の高い結果が得られます。

二酸化炭素を活性媒体として使用するCO2レーザは、工業用アプリケーションで広く普及しています。密度の高い光線や光パルスにより、極めて硬い材質であっても即座に溶解または気化させることができます。CO2レーザが光を放出するには、エネルギー供給による励起が必要です。TRUMPFのCO2レーザに必要なエネルギーは、TRUMPF Hüttingerの高出力型高周波ジェネレータから供給されます。