科学実験では、特別で極めて特殊なレーザー装置が多数必要になります。これらの光源に対する要件は、最先端技術よりも高いことが少なくありません。TRUMPFは科学者のニーズも最大限に満たすことができるように、比類のない技術ポートフォリオを取り揃えています。材料加工向けの典型的なレーザー製品群に加えて、TRUMPFグループに属する複数の子会社では、お客様固有のレーザー装置を研究用途専用に開発・製造しています。そのポートフォリオの幅は、低出力CW光源から出力密度が極めて高いフェムト秒レーザーにまで至ります。
TRUMPF Scientific Lasersは、世界で最高の出力を誇るDiraシリーズの再生増幅器をお客様に提供しています。製品ポートフォリオに含まれるカスタマイズ型ピコ秒/フェムト秒レーザーは、繰り返し周波数kHzで200 mJ以上のパルスエネルギーを誇り、学術界と産業界の様々な独特な用途で使用可能です。Diraシリーズのレーザーは全て、工業用TRUMPFディスクレーザー技術に基づいています。またラインナップには、光学パラメーター式増幅器、フェムト秒単位での同期化用モジュール、光学コンポーネントも含まれています。
AMPHOSは高出力の超短パルスレーザーを、学術及び産業用途向けに開発・製造しています。InnoSlab増幅技術に基づくレーザー装置は最大1000 Wの出力を誇り、20 mJのパルスエネルギーが得られ、パルス時間は1 ps未満となっています。波長はUVからIRまで用意されており、 基礎研究分野 (OPCPA、アト秒物理、自由電子レーザーなど) 並びに材料加工分野で使用されています。増幅器からシステム技術に至るまで、シードレーザーを一貫生産しているため、お客様固有のソリューションが実現可能になっています。
Access Laserがお客様に合わせて製造している高出力の長波長赤外光源からは、次世代の高精度測定/検出/製造技術に取り組んでいる研究者とOEMに比類のない付加価値がもたらされています。波長が選択可能な当社のレーザーは、生物医学診断やLiDARの化学的識別などの分野における自動サンプル採取を可能にしています。それに加えて、出力安定性の面でも業界トップであり、GaN半導体向けメタマテリアルであるグラフェンの製造や、紫外線フォトリソグラフィによる次世代娯楽家電などの用途でのブレイクスルーの実現に貢献しています。
