ASML ehrt TRUMPF für neuen EUV-Laser

Veldhoven/Ditzingen, 24. Oktober 2025 – Das niederländische Technologieunternehmen ASML hat TRUMPF gestern mit dem renommierten Supplier Award in der Kategorie „Technologie“ ausgezeichnet. Anlass ist die erfolgreiche Entwicklung und das „First Light“ eines neuen EUV-Hochenergielasers, der in der nächsten Generation der EUV-Lithografiesysteme von ASML für die weltweit leistungsstärksten Mikrochips sorgen soll. TRUMPF hat den Laser kürzlich erstmals erfolgreich getestet, die Serienproduktion soll 2026 beginnen.

„ASML freut sich sehr auf die neuen TRUMPF-Laser, da sie die Verfügbarkeit und Leistung unserer EUV-Produkte bei geringerem Energieverbrauch erhöhen sollen”, sagt Sheila Leenders, Senior Vice President Strategic Sourcing and Procurement bei ASML.

Mit mehr als 450.000 Einzelteilen und einem Gewicht von über 20 Tonnen markiert der neue EUV-Laser einen Meilenstein in der Halbleiterfertigung. Das System wurde von TRUMPF grundlegend neu entwickelt, um die Zuverlässigkeit und Verfügbarkeit in den Chipfabriken weiter zu erhöhen. Gleichzeitig verbraucht der neue Laser weniger Energie und trägt so zur Ressourcenschonung und CO₂-Reduzierung bei.

„Die Auszeichnung von ASML ist eine besondere Anerkennung für das Engagement und die Innovationskraft unseres Teams. Gleichzeitig unterstreicht sie die Bedeutung der engen Partnerschaft mit ASML. Als Technologieführer in der Halbleiterindustrie setzt das Unternehmen weiterhin neue Maßstäbe in Sachen Nachhaltigkeit und Innovation. Gemeinsam treiben wir die Entwicklung zukunftsweisender Lösungen für die Chipfertigung voran“, sagt Volker Jacobsen, CEO EUV bei TRUMPF.

Die Auszeichnung hat ASML TRUMPF am 23. Oktober 2025 im Rahmen des ASML Suppliers' Day verliehen. Die ersten neuen Hochenergielaser sollen 2026 an ASML ausgeliefert werden.

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