1990年にTRUMPFの一員となったHÜTTINGER
企業同士が結び付くことが運命づけられている場合があります。企業文化が似ているからかもしれません。相互のビジネス領域が理想的に補完し合うからかもしれません。あるいは、同じビジョンを共有しているからかもしれません。その一例が、レーザ・機械製造分野のリーディングカンパニーであるTRUMPFと、代表的なプロセスエネルギー装置メーカーであるTRUMPF Hüttingerであり、後者は1990年以来、TRUMPFのパワーエレクトロニクス事業部門となっています。
この特別な関係のキーポイントは、TRUMPF Hüttingerが同社の強みである柔軟性、イノベーション力、そして迅速な決断力を最初から維持して、継続的に成長を遂げられたことにあります。TRUMPF Hüttingerの事業分野には、プラズマ技術、産業用加熱、バッテリーインバーターシステムならびにマイクロ波発生器・増幅器が含まれています。TRUMPF Hüttingerのプロセス電力供給装置は、研究、開発、生産の多数の主要プロセスで重要な役割を担っています。ヨーロッパ、アメリカとアジアに販売・サービス拠点を有している同社が立てた持続目標は、長期間にわたる密接な顧客関係がなければ達成できません。これをTRUMPF Hüttingerでは、信頼の生成（ジェネレート）と呼んでいます！
事業分野
マイクロチップ、フラットスクリーンやソーラーセルなどは、全てが革新的なプラズマ技術の賜物です。材料の成膜と剥離を的確に行って初めて、ナノメートルレベルの薄い膜が必要条件であるハイテク製品が実現します。しかしプラズマなしにプラズマ技術は成立しません。TRUMPF Hüttingerのプラズマジェネレータでは、幅広い範囲の出力と周波数が提供されており、プラズマの確実な点火と安定した燃焼が保証されます。
誘導加熱は難度の高い熱処理に理想的なソリューションであり、あらゆる加熱方法の中で最高レベルの効率を誇ります。温度範囲がほぼ無限であるため、最大限の柔軟性が得られます。TRUMPF Hüttingerの誘導加熱ジェネレータは、硬化や封印などの典型的なプロセスだけでなく、結晶育成などの特殊アプリケーションにも対応可能です。
半導体ベースのコンパクトなマイクロ波発生器も、要件の高い非接触加熱に最適であり、正確で再現性の高い結果が得られます。
インバータはモジュール構造になっているため、キロワットからメガワットに至るまで、様々な出力クラスの蓄電ソリューションに使用することができます。革新的な技術コンセプトが採用されているため、バッテリーシステムの運転時に最適な作動点と最高レベルの効率が、エネルギー供給装置から産業用アプリケーション、そしてメイン蓄電システムに至るまで、あらゆる使用領域で実現します。
TRUMPF Hüttingerのマイクロ波増幅器は、粒子加速器で使用されています。最新の半導体技術に基づいているため、電子、イオンや陽子などの粒子の加速に必要な出力が得られます。様々な出力クラスに合わせたカスタマイズ型システムソリューションが用意されており、総出力は数kWから百kWをはるかに上回るレベルまで、周波数帯域はMHzからGHzまで対応可能です。
製品とサービス
フラットスクリーン、半導体およびソーラーセルの製造、建築用ガラスへの機能膜の蒸着、誘導加熱による包装の封止やツールの硬化などの用途を問わず、成熟した多種多様なプロセス用製品と質の高いサービスをお客様に提供しています。
