Garanti per eccellenti risultati di processo
Con questi generatori ad alta frequenza andate sul sicuro: la serie TruPlasma RF 3000 si contraddistingue per la struttura robusta e per l'elevata efficienza. Ciò rende i generatori di questa serie perfettamente idonei per processi al plasma stabili e riproducibili, come ad esempio nella produzione di schermi piatti, di celle solari o di semiconduttori. Installati in migliaia di applicazioni, questi generatori garantiscono un'elevata produttività con eccezionali risultati di processo.
Rendimenti fino all'80% permettono di ridurre fino al 50% i costi per l'energia elettrica.
Conduzione sicura anche di processi complessi e di nuovo tipo.
Tecnologia CombineLine: protezione affidabile da potenze riflesse in caso di disadattamento.
Erogazione continua o pulsata di potenza che permette un impiego versatile.
Processi di incisione e rivestimento
I generatori ad alta frequenza TruPlasma RF Serie 3000 sono adatti soprattutto per processi di incisione e rivestimento, come ad esempio incisione al plasma, incisione ionica reattiva, ALD e PECVD.
Rivestimento di pezzi metallici
I processi al plasma consentono sia di applicare materiale su superfici, sia di asportarlo, ad esempio nel rivestimento di pezzi metallici con uno strato protettivo antiusura oppure nella strutturazione di componenti elettronici tramite incisione al plasma o trattamenti al plasma di incenerimento fotoresistenti.
Rivestimento di schermi piatti e celle solari
I generatori ad alta frequenza TruPlasma RF Serie 3000 sono ideali per processi al plasma quali RIE, ALD, PECVD e sputtering RF. Questi processi vengono impiegati fra l'altro nel rivestimento di schermi piatti e celle solari.
Massima efficienza e stabilità di processo
Il dimezzamento della potenza dissipata e la riduzione della quantità di acqua di raffreddamento necessaria, grazie all'eccellente rendimento, riducono al minimo i costi di esercizio. La struttura particolarmente robusta dei generatori permette tempi di esercizio più lunghi anche in processi critici e di conseguenza una maggiore velocità di rivestimento superficiale. Le oscillazioni del plasma vengono contrastate con successo dalla tecnologia CombineLine con un'impedenza di uscita reale di 50 ohm, permettendo così processi assolutamente stabili.
Sicurezza in tutte le situazioni
La struttura robusta garantisce la massima affidabilità e produttività del processo. La protezione al 100% dal disadattamento garantisce un funzionamento sicuro anche in caso di carichi critici. La potenza di uscita continua o pulsata, a seconda delle esigenze, supporta un'ampia gamma di requisiti di processo. In tutto il mondo sono installati oltre 20.000 impianti, più di qualsiasi altro tipo di alimentazione elettrica per impianti al plasma.
TRUMPF SystemPort
La SystemPort permette di chiudere il circuito di regolazione misurando il segnale RF direttamente sull'entrata e sull'uscita della rete di adattamento. Tutti i valori rilevati vengono messi a disposizione del generatore RF. Sono così garantiti un controllo migliore dei parametri di processo, la protezione della rete di adattamento e un tempestivo riconoscimento di archi. L'intero sistema RF può essere controllato anche mediante una singola interfaccia del generatore.
Diverse opzioni permettono di adattare in modo ottimale il generatore ad alta frequenza alla vostra applicazione.
Il modulo Arc Management è la soluzione ideale per il miglior controllo del processo al plasma. Un riconoscimento mirato degli archi garantisce la massima produttività possibile e protegge contemporaneamente il prodotto e l'impianto.
TruControl Power
Il software di comando user-friendly TruControl Power consente l'agevole messa in funzione comoda ed un controllo sicuro del generatore HF o dell'intero sistema RF TRUMPF nel processo corrente.
Tutti i componenti del sistema TRUMPF RF sono abbinati in maniera ottimale.
Abbinamento perfetto: generatore e matchbox
I processi al plasma si comportano come un carico complesso e variabile a cui il generatore deve fornire continuamente alimentazione elettrica. Ciò avviene tramite reti di adattamento attive, le cosiddette matchbox, che garantiscono un preciso adattamento all'impedenza ottimale di 50 ohm in qualsiasi momento. Nasce così un sistema perfettamente abbinato, il sistema RF TRUMPF. Le varie interfacce, come ad es. EtherCAT, consentono di integrare molto facilmente generatore e rete di adattamento nell'ambiente di processo esistente e ottenere una soluzione di sistema ottimizzata mediante una connessione intelligente tra generatore e rete di adattamento, la cosiddetta SystemPort.
Sono possibili scostamenti da questa gamma di prodotti e da questi dati in funzione del paese. Con riserva di modifiche relative a tecnica, dotazione, prezzo e offerta di accessori. Contattare il proprio interlocutore locale per sapere se il prodotto è disponibile nel proprio paese.
