Generatori ad alta frequenza di nuova generazione
Per il rivestimento o la strutturazione di superfici è indispensabile un'alimentazione elettrica del plasma stabile e riproducibile. A tale scopo, i generatori HF TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13), dotati della più moderna elettronica di potenza, offrono le migliori condizioni: grazie alla potenza di uscita stabile e all'elevata precisione di regolazione garantiscono i migliori risultati e, al contempo, elevata produttività.
Tecnologia CombineLine: prestazioni ottimali dei processi grazie alla reale impedenza in uscita di 50 Ohm.
Non è più necessario adattare la lunghezza del cavo: una novità assoluta nel settore dell'alta frequenza!
Tecnologia CombineLine: protezione affidabile da potenza riflessa in caso di disadattamento.
Rendimenti fino all'80% permettono di ridurre fino al 50% i costi per l'energia elettrica.
L'assenza di riscaldamento o di impurità dell'aria ambiente permette l'utilizzo in camera bianca.
Idoneità per il rivestimento di schermi piatti e di pannelli touch
I generatori ad alta frequenza TruPlasma Serie RF 1000 / 3000 (G2/13) sono ideali per processi al plasma quali RIE, ALD, PECVD e Sputtering RF. Questi processi vengono impiegati fra l'altro nella produzione di elementi costruttivi a semiconduttore e di sistemi micromeccanici (MEMS) nonchè nel rivestimento di schermi piatti e di pannelli solari.
Campo d'applicazione tipico: settore dell'energia solare
Campi di applicazione tipici dei generatori TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13) sono complessi processi PECVD, di incisione e di sputtering HF nel settore dell'energia solare.
Produzione di semiconduttori
Nella produzione di semiconduttori trovano impiego diversi processi al plasma, dai processi di asportazione, passando per l'incisione a secco fino alla fusione a zone nella produzione di silicio puro. I generatori TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13) offrono tutti i presupposti per un'alimentazione elettrica stabile ed adattata alla perfezione al rispettivo processo, in modo da garantire risultati eccellenti e riproducibili.
Adattamento ottimale al vostro processo
Il matching intelligente in tempo reale dei generatori TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13) garantisce un adattamento diretto e rapido dell'impedenza a 50 ohm. La tecnologia brevettata CombineLine impedisce in maniera affidabile oscillazioni del plasma e impurità, mentre il concetto di raffreddamento senza ventilatore riduce la frequenza dei guasti, aumenta l'efficienza e permette l'uso in ambienti senza polvere (camere bianche).
Massima efficienza e flessibilità
Con rendimenti elevatissimi fino all'80% potete addirittura dimezzare le spese energetiche rispetto ai generatori tradizionali. Le numerose interfacce disponibili (interfaccia analogica configurabile, RS 232/485, DeviceNet, PROFIBUS, EtherCAT) semplificano l'integrazione in impianti esistenti, così come gli alimentatori di gamma ultra larga integrati (200-480 VAC) rendono superflui adattamenti tecnici. Il tipo di costruzione compatto, nonostante l'elevata irradianza (modulo a incasso da 19 o 19 ½ pollici), permette l'integrazione a ingombro ridotto in ogni impianto di produzione.
TRUMPF SystemPort
La SystemPort permette di chiudere il circuito di regolazione misurando il segnale RF direttamente sull'entrata e sull'uscita della rete di adattamento. Tutti i valori rilevati vengono messi a disposizione del generatore RF. Sono così garantiti un controllo migliore dei parametri di processo, la protezione della rete di adattamento e un tempestivo riconoscimento di archi. L'intero sistema RF può essere controllato anche mediante una singola interfaccia del generatore.
Diverse opzioni permettono di adattare in modo ottimale il generatore ad alta frequenza alla vostra applicazione.
La soluzione brevettata Auto Frequency Tuning permette l'adattamento simultaneo e veloce della frequenza e assicura un'interazione ottimale fra il generatore e la rete di adattamento. Grazie a questa tecnologia brevettata, condizioni minime locali non sono più un ostacolo: il sistema RF viene portato in stato ottimale, permettendo così di ottenere i migliori risultati di processo e un'elevata riproducibilità.
Il modulo Arc Management è la soluzione ideale per il miglior controllo del processo al plasma. Un riconoscimento mirato degli archi garantisce la massima produttività possibile e protegge contemporaneamente il prodotto e l'impianto.
Tutti i componenti del sistema TRUMPF RF sono abbinati in maniera ottimale.
Abbinamento perfetto: il sistema RF di TRUMPF
I processi al plasma si comportano come un carico complesso e variabile a cui il generatore deve fornire continuamente alimentazione elettrica. Ciò avviene tramite reti di adattamento attive, le cosiddette matchbox, che garantiscono un preciso adattamento all'impedenza ottimale di 50 ohm in qualsiasi momento. Nasce così un sistema perfettamente abbinato, il sistema RF TRUMPF. Le varie interfacce, come ad es. EtherCAT, consentono di integrare molto facilmente generatore e rete di adattamento nell'ambiente di processo esistente e ottenere una soluzione di sistema ottimizzata mediante una connessione intelligente tra generatore e rete di adattamento, la cosiddetta SystemPort.
Sono possibili scostamenti da questa gamma di prodotti e da questi dati in funzione del paese. Con riserva di modifiche relative a tecnica, dotazione, prezzo e offerta di accessori. Contattare il proprio interlocutore locale per sapere se il prodotto è disponibile nel proprio paese.
