要求の高い加熱プロセス向けの信頼性のある高出力
500 kHz以上の高周波でも、TruHeat HF 7000シリーズは一定した高い出力を供給 – 半導体や太陽電池産業における中断のない長時間のプロセスや、熱処理請負業者に応じて変動する要件に対応するために最適です。どんな状況にも対応できる信頼性の高いジェネレータです。
周波数が500 kHzを超えても確実なプロセス結果を保証します。
最大周波数3000 kHzまでの場合500 kW
10 kW～500 kWにわたる7種の出力段階により、多様な誘導加熱アプリケーションをカバーします。
周波数は400 kHz～3000 kHzに対応可能、多様な加熱プロセスに合わせて最適に調整できます。
困難なプロセスでも高い長期安定性
超高純度シリコン製造向けのフローティングゾーン法 (FZ)。
多様なアプリケーション
誘導結合プラズマ (ICP)。
お客様のアプリケーションにベストパフォーマンスを
堅牢な設計のジェネレータは産業環境でも恒久的に使用できるため、安定した連続運転が可能となり、困難な長期プロセスでも驚くような生産性を発揮します。
実績のある真空管技術により、最大出力周波数と最大出力電圧が生成され、統合されたサイリスタ技術は、迅速で正確な出力調整を実現します。ジェネレータと共振回路は、作業ステーションのスペースを最適化するために、別々のモジュールとして入手可能です。
様々なオプションを使用することにより、高周波RFジェネレータを異なるシステム環境に合わせて最適に調整できます。
リモートコントロールユニットの機能範囲は、ジェネレータの操作パネルと同様の機能を備えています。このため、アプリケーション環境で直接ジェネレータを操作でき、同時に加熱プロセスを監視することができます。
外部回路とも呼ばれるマッチング回路を使用して、負荷 (誘導コイル + 加工品) を高周波RFジェネレータに合わせて調整することができるため、ジェネレータは常に最大出力を発揮することができます。異なるアプリケーションで様々なマッチング回路を使用できます。
適切なシステムコンポーネントを選択できるため、高周波RFジェネレータを所定のアプリケーションに合わせて最適にカスタマイズできます。
国によっては、この製品ラインナップと製品情報が異なる場合があります。技術、装備、価格及び提供アクセサリーは変更されることがあります。 現地担当者に問い合わせて、国内で製品を入手できるかどうかを確認してください。
