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誘導加熱

TruHeat MF 7000 (G2) シリーズ

組合せにより独自の形態を実現

省スペースでも最高性能

TruHeat MF 7000 (G2) シリーズの中周波電源は驚くほど高効率: 90 %を上回る効率により、運転中も特に経済的で、出力と出力周波数を幅広く調整できるため、様々なアプリケーションに使用できます。硬化、焼なまし、はんだ付け、溶解、鍛造など典型的な誘導加熱アプリケーションでも、エピタキシや結晶育成などのハイテクアプリケーションでも、この電源は説得力のある結果をもたらしてくれます。

アプリケーションで最大限のフレキシビリティーを発揮

周波数範囲が幅広い(0.5 kHz~200 kHz)ため各プロセスに合わせて正確に調整可能。

高い出力密度、わずかな必要スペース

TruHeat MF 7000 (G2) シリーズは、市場で最もコンパクトな高性能MF誘導加熱電源です。

最も低い運転コストで最高効率を提供

90 %を上回る効率で特に経済的な運転を保証。

モジュール構造、最大稼動率

すべてのコンポーネントは容易に交換できることから、メンテナンスや修理時間も最低限に抑えられます。

最大限の生産性とプロセス安全性

迅速かつ正確なMF出力の調整により安定したプロセス制御が可能。

多様なアプリケーション

TruHeat MF 7000 (G2) シリーズのMF誘導加熱電源は、多様なアプリケーションで汎用的に使用でき、典型的な領域だけでなくハイテクプロセスにも対応します。この製品群は、特に硬化、はんだ付け、焼きなまし、溶解、鍛造などでその力を発揮します。

エピタキシ

LED製造などにおける同一素材の基材上での単結晶層形成。

結晶育成

チョクラルスキー法による、るつぼ引き上げなどの人工的な結晶生成。

誘導加熱プロセスの経済的なソリューション

効率が90 %を上回るTruHeat MF 7000シリーズの第二世代誘導加熱電源は、最も経済的で運転コストを最小限に抑えます。高性能にもかかわらずコンパクトなデザインで、どんな生産設備でも省スペースで統合できます。周波数範囲と出力範囲が幅広く、最大限のアプリケーション柔軟性を発揮し、負荷適合も簡単に行うことができます。

不利な条件でも最大限のプロセス安全性と可用性を発揮

モジュール式で、容易にメンテナンスや修理を行うことができる構造により、ジェネレータの最大稼働率 (Uptime) が保証されます。また必要となるポンプ/冷却用出力が低いことから、このジェネレータは困難な生産条件下でも使用できます。

中周波出力を迅速かつ正確に制御し、プロセスの安全性と生産性を向上させます。さらに、実行中のプロセスは、低減された出力でも続行できます。

電源接続データ                
供給電圧 (±10%) (±10%) (±10%) (±10%) (±10%) (±10%) (±10%) (±10%)
電源周波数 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz
電源入力電力 116 kVA 139 kVA 232 kVA 278 kVA 93 kVA 174 kVA 209 kVA 75 kVA
出力係数 0.95 0.95 0.95 0.95 0.95 0.95 0.95 0.95
出力                
定格出力 100 kW 120 kW 200 kW 240 kW 80 kW 150 kW 180 kW 60 kW
最大出力電流 560 A eff 560 A eff 1120 A eff 1120 A eff 560 A eff 720 A eff 720 A eff 280 A eff
最大出力電圧 1200 V eff 1200 V eff 1200 V eff 1200 V eff 1200 V eff 1200 V eff 1200 V eff 1200 V eff
定格動作周波数 1 kHz - 200 kHz 1 kHz - 200 kHz 1 kHz - 200 kHz 1 kHz - 200 kHz 1 kHz - 200 kHz 1 kHz - 200 kHz 1 kHz - 200 kHz 1 kHz - 200 kHz
電源ケーブル長さ 5 m - 30 m 5 m - 30 m 5 m - 30 m 5 m - 30 m 5 m - 30 m 5 m - 30 m 5 m - 30 m 5 m - 30 m
ハウジング                
800 mm 800 mm 800 mm 800 mm 800 mm 800 mm 800 mm 800 mm
高さ 2000 mm 2000 mm 2000 mm 2000 mm 2000 mm 2000 mm 2000 mm 2000 mm
深さ 800 mm 800 mm 800 mm 800 mm 800 mm 800 mm 800 mm 800 mm
重量 570 kg 580 kg 630 kg 700 kg 570 kg 630 kg 630 kg 510 kg
保護タイプ IP 54 54 54 54 54 54 54 54
通信インターフェース                
アナログ/デジタル
RS 232/RS 485
PROFIBUS
EtherCAT
DeviceNet
冷却要件                
最大水圧 6 bar 6 bar 6 bar 6 bar 6 bar 6 bar 6 bar 6 bar
最小圧力差 2.2 bar 2.2 bar 2.5 bar 2.5 bar 2.2 bar 2.2 bar 2.2 bar 2.2 bar
最小流量 17 l/min 17 l/min 27 l/min 27 l/min 17 l/min 20 l/min 20 l/min 14 l/min
最大温度 冷却剤 45 °C 45 °C 45 °C 45 °C 45 °C 45 °C 45 °C 45 °C
一般                
全体効率 91 % 91 % 91 % 91 % 91 % 91 % 91 % 91 %
証明書 / 標準 CE適合宣言書 CE適合宣言書 CE適合宣言書 CE適合宣言書 CE適合宣言書 CE適合宣言書 CE適合宣言書 CE適合宣言書
環境条件                
外部温度 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C

様々なオプションを利用して、中周波ジェネレータを所定のアプリケーションに合わせて最適にカスタマイズできます。

アクティブな除湿

アクティブな除湿 (冷却水量調整を使用した場合のみ)。

追加インターフェースProfinet及びEtherCAT

TruHeat MF 7000 (G2) シリーズの誘導加熱電源は、標準装備に含まれているインタフェースPROFIBUSとADインタフェースの他にも、さらにProfinetとEtherCATを拡張追加できます。

自動冷却水量調整

自動冷却水量調整機能を統合したインテリジェントな冷却コンセプト

操作ソフトウェア TruControl Power

Windowsベースのソフトウェア「TruControl Power」を使用すると、ジェネレータをコンピュータやノートブックから快適に操作、構成、監視することができます。最も重要な機能: 顧客特有のパラメータセットの入力及び保存、ソフトウェアオシロスコープによるプロセスパラメータのグラフィック表示、迅速なエラー分析用関連データの保存。

様々なシステムコンポーネントから選択できるため、中周波ジェネレータを所定のアプリケーションに合わせて最適にカスタマイズできます。

誘導加熱装置
誘導加熱装置のジオメトリは、各加熱プロセスに合わせて調整できます (リング、ライン、フォームの各種誘導加熱装置)。
同軸変圧器
同軸変圧器は、ジェネレータと誘導加熱装置間の出力調整に使用します。変換比率は、6:1、9:1、12:1で提供されています。
パイロメータとプログラムコントローラ
パイロメータは、表面温度が2000 °C以下の非接触測定に使用します。接続されているプログラムコントローラにより、温度プロファイルを精密に移動できます。
冷却ユニット
冷却ユニットは、プロセス熱を確実に放散させます。様々な出力範囲に対応する仕様が提供されています。

国によっては、この製品ラインナップと製品情報が異なる場合があります。技術、装備、価格及び提供アクセサリーは変更されることがあります。 現地担当者に問い合わせて、国内で製品を入手できるかどうかを確認してください。

お客様向け情報

誘導加熱向け高周波RFジェネレータ
妥協のない誘導性プロセスエネルギー

TruHeat HF 1000 / 3000 (H) / 5000 (H) シリーズは構造がコンパクトであり、様々な形状が提供されているため新規及び既存の設備に簡単に統合できます。

Services_Inductions_Applications_Focus_on_Heating_Process
誘導加熱: 他社があきらめてしまう領域で、当社は本領を発揮します

特殊なアプリケーションが必要で、標準的なソリューションでは解決できない場合、当社はお客様の要求に合わせた誘導加熱プロセスを開発します。

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