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誘導加熱

TruHeat MF G3シリーズ

何十年もの経験が詰まった製品

すべての誘導加熱アプリケーションに世界中で使用可能

TRUMPF Hüttingerの新世代モデルが登場しました。TruHeat MF G3シリーズのジェネレーターは、結晶育成とエピタキシでの用途に特に適しています。この新世代モデルでは、業界をリードしてきた先代モデルTruHeat MF 3000シリーズで得られた長年の経験が、信頼性と堅牢性の面でコストを最適化しながら活用されています。

幅広い動作電圧範囲

技術的調整なしで世界中で使用可能

堅牢で信頼性の高い構造

ダウンタイムがわずかであるため、常に使用可能でコスト削減にも貢献

必要な水量がわずか

コスト削減につながる経済的で堅牢な冷却コンセプト

寿命全体を通して最高の経済性を約束

最大94.5 %の高い効率と低いランニングコスト

広範囲にわたる用途

業界をリードしてきた先代モデルTruHeat MF 3000で得られた経験が、信頼性と堅牢性の更なる向上に役立っており、コスト面でも最適化されています。それは特にSiCに当てはまります。またそれに加えて、誘導加熱市場全体にも幅広く対応可能です。

エピタキシ

LED製造などにおける同一素材の基材上での単結晶層形成。

結晶育成

TruHeat MF G3シリーズのジェネレーターは、結晶育成などの要件の高い誘導加熱タスクに特に適しており、中でも炭化ケイ素 (SiC) の育成に使用されています。

フレキシブルそして世界中で使用可能

必要なスペースが少ないため、各アプリケーション環境に簡単に統合可能 - 独立した並列LC回路を搭載した構造になっているため、プロセスで柔軟に配置することが可能です。可変供給電圧であるため、これらの電源は技術的な変更を行わずに世界中で使用できます。また様々なインタフェースが提供されていることから、構成や操作がさらに簡単になります。

温度制御プロセスに理想的なソリューション

並列LC回路技術は、セットアップ時間を削減し、生産性を改善し、より幅広いアプリケーションへの適用を実現します。TruHeat MF G3シリーズのジェネレーターを使用すれば、出力がほぼ0 %~100 %の範囲でフレキシブルに調整可能になるため、温度制御プロセスを最適に制御することができます。運転時の信頼性と長期安定性は、高い生産性と結果の再現性を保証します。またMF出力変圧器のタップにより、様々な誘導加熱プロセスに合わせて簡単に調整できます。

TruHeat MF G3シリーズ
外部回路

外部回路を使用して、負荷(誘導コイル + 加工品)をHFジェネレーターに合わせて調整することができるため、ジェネレーターは常に最大出力を発揮することができます。様々なアプリケーションで各種外部回路が使用可能です。

回路カテゴリー3

設備が電流から確実に切り離されます。

切替可能な出力電圧

出力電圧は300 Vから600 Vに切り替えることができるため、要件の高い加熱プロセスに最適です。

ウェブベースのGUI

このジェネレーターはウェブベースのグラフィカルユーザーインターフェースを使用して、デスクトップやノートパソコンからソフトウェアなしで快適に操作、設定、監視することができます。

誘導加熱装置
誘導加熱装置のジオメトリは、各加熱プロセスに合わせて調整できます (リング、ライン、フォームの各種誘導加熱装置)。
パイロメータとプログラムコントローラ
パイロメータは2000 °Cまでの表面温度を非接触式に測定するために使用します。プログラムコントローラが連結されているため、温度曲線をピンポイントでなぞることができます。
冷却ユニット
冷却ユニットは、プロセス熱を確実に放散させます。 様々な出力範囲に対応する仕様が提供されています。
同軸変圧器
同軸変圧器は、ジェネレータと誘導加熱装置間の出力調整に使用します。 変換比率は、6:1、9:1、12:1で提供されています。

国によっては、この製品ラインナップと製品情報が異なる場合があります。技術、装備、価格及び提供アクセサリーは変更されることがあります。 現地担当者に問い合わせて、国内で製品を入手できるかどうかを確認してください。

お客様向け情報

高性能の誘導加熱電源: TruHeat MF 5040
比類のない加熱効率

TruHeat MF 3000 / 5000 / 7000シリーズのジェネレータの特長は、コンパクトでありながら、出力密度が高く、周波数範囲が幅広いところにあります。

Services_Inductions_Applications_Focus_on_Heating_Process
誘導加熱: 他社があきらめてしまう領域で、当社は本領を発揮します

特殊なアプリケーションが必要で、標準的なソリューションでは解決できない場合、当社はお客様の要求に合わせた誘導加熱プロセスを開発します。

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