Innowacyjna, modułowa, skalowalna: nowa platforma generatora TRUMPF Hüttinger
Zasilacze TruPlasma VHF Serii 3000 - innowacyjna platforma, która umożliwia największe gęstości mocy i spełnia rygorystyczne wymagania procesowe Modułowa, chłodzona wodą konstrukcja umożliwia skalowanie mocy wyjściowej do 80 kW. Ponadto kompaktowe generatory VHF przekonują wysoką rentownością i solidną konstrukcją.
Zapewnia to najlepszą kontrolę procesów plazmowych dla pulsowania jedno- i wielopoziomowego.
Umożliwia to elastyczną kontrolę zapłonu plazmy.
Automatyczna regulacja częstotliwości w celu uzyskania optymalnej współpracy między zasilaczem a siecią dopasowującą.
Doskonałe, powtarzalne wyniki procesu przy użyciu wysoce precyzyjnej, cyfrowej modulacji częstotliwości.
Krótkie czasy przezbrojenia systemu dzięki brakowi konieczności regulacji długości kabla HF przy zmianach procesowych.
Niezawodne działanie zasilacza nawet przy niedopasowaniu dzięki technologii CombineLine.
Produkcja ogniw fotowoltaicznych
W dziedzinie ogniw fotoelektrycznych istnieją liczne obszary zastosowania dla energii procesów dostosowanej do potrzeb. W tym przypadku stosuje się różne procesy plazmowe do nanoszenia i ściągania materiału, na przykład, procesy rozpylania, PECVD i wytrawiania. Generatory TruPlasma VHF serii 3000 można optymalnie dostosować do danego procesu, przy czym szybki system zarządzania Arc umożliwia stabilną regulację plazmy. W ten sposób zagwarantowane są doskonałe wyniki procesu i wysoka produktywność.
Produkcja półprzewodników
W produkcji półprzewodników stosuje się różne procesy plazmowe, począwszy od procesów ablacji, przez suche wytrawianie, aż po ciągnienie strefowe przy wytwarzaniu czystego krzemu. Generatory TruPlasma VHF serii 3000 oferują wszystkie warunki dla stabilnego zasilania prądowego optymalnie dostosowanego do danego procesu, aby uzyskać doskonałe, powtarzalne wyniki.
Idealne do powlekania płaskich ekranów
Zasilacze TruPlasma VHF Serii 3000 doskonale sprawdzają się w procesach plazmowych, takich jak RIE, ALD, PECVD i rozpylania RF. Procesy te są stosowane między innymi w produkcji urządzeń półprzewodnikowych i układów mikromechanicznych (MEMS), jak również do pokrywania płaskich ekranów i paneli słonecznych.
Elastyczne dopasowanie do procesu
Modułowa koncepcja platformy TruPlasma VHF serii 3000 umożliwia skalowanie mocy wyjściowej do 80 kW. Dzięki zaimplementowanej technologii CombineLine generator jest bardzo wytrzymały nawet w przypadku niedopasowania. Jego szeroki zakres częstotliwości i zmienne napięcie zasilania oraz długość kabla pozwalają na elastyczne dostosowanie się do różnych zastosowań w różnych krajach.
Najwyższa wydajność i produktywność
Generatory HF TruPlasma VHF serii 3000 zbudowane są w całości w najnowocześniejszej technologii półprzewodnikowej z tranzystorami mocy LDMOS. Wysoce zintegrowana technika płaskiej konstrukcji umożliwia wysoką gęstość mocy w połączeniu z wysoką efektywnością energetyczną i odpowiednio obniżoną wydajnością chłodzenia. To sprawia, że w tym zakresie częstotliwości rodzina tych produktów oferuje niezrównaną wydajność i obniża rynkowe koszty eksploatacji.
TRUMPF SystemPort
SystemPort umożliwia zamknięty obieg sygnału poprzez pomiar sygnału RF bezpośrednio na wejściu i wyjściu sieci dopasowywania. Zasilacz RF ma dostęp do wszystkich zmierzonych wartości. Dzięki temu można lepiej monitorować parametry procesu, chronić sieć dopasowywania i zapewnić wczesne rozpoznawanie łuku. Kompletnym systemem RF można sterować poprzez jeden interfejs zasilacza.
Różnorodność opcji konfiguracji pozwala na optymalne dopasowanie zasilaczy VHF do wielu aplikacji.
Przemyślana detekcja łuków to idealny moduł dla najlepszej kontroli procesów plazmowych. Precyzyjna detekcja łuków gwarantuje najwyższą możliwą produktywność i jednocześnie chroni produkt i jego instalację.
Elastyczne kształtowanie impulsu: kształt sygnału wyjściowego może być dostosowany do szczególnych wymagań procesowych.
Opatentowane rozwiązanie Auto Frequency Tuning umożliwia symultaniczną i szybką regulację częstotliwości w celu uzyskania optymalnej współpracy między zasilaczem a siecią dopasowywania. Dzięki tej opatentowanej technice lokalne minimum nie stanowi już przeszkody: system RF pracuje optymalnie i umożliwia uzyskanie najlepszych wyników procesu i dużą powtarzalność.
TruControl Power
Łatwe w obsłudze oprogramowanie sterujące TruControl Power pozwala na wygodne uruchomienie i stabilne monitorowanie pracy zasilacza HF lub całego systemu TRUMPF RF w bieżącym procesie.
Wybierając odpowiednie komponenty systemu można optymalnie dostosować zasilacz VHF do potrzeb danej aplikacji.
Sieci dopasowywania TruPlasma Match zapewniają optymalne przenoszenie mocy z zasilacza do wyładowania plazmowego. Sieć dopasowywania może pracować bezpośrednio lub poprzez inteligentne połączenie zasilacza z siecią dopasowywania nazywane SystemPort.
Składa się z adaptera do podłączenia wody, wtyczki do zasilania typu HARTING AC, adaptera z funkcją Interlock, konwertera LEMO EPL na żeński BNC (dla złącza Clock and Pulse sync).
Oscylatory matrycowe pozwalają ustabilizować i zoptymalizować krytyczne synchroniczne procesy plazmowe. Zintegrowany cyfrowy syntezator częstotliwości i fazy zapewnia wysoką częstotliwość i stabilność fazową i umożliwia regulację położenia faz o bardzo małej wielkości kroku. Istnieją różne wersje oscylatorów wzorcowych do wyboru dla częstotliwości 13,56 MHz oraz różne kombinacje częstotliwości.
Przełącznik HF pozwala na wielokrotne użycie generatora HF na różnych stacjach obróbki plazmowej, na przykład do zasilania prądowego procesów sekwencyjnych lub systemów o różnych punktach zasilania. Dostępne są różne przełączniki HF w dwóch poziomach mocy oraz z 2, 3 lub 4 wyjściami.
Do przesyłu energii HF TRUMPF oferuje kabel koncentryczny Hüttinger specjalnie zaprojektowany do eksploatacji w systemach 50-omowych.
Idealne dopasowanie: system TRUMPF RF
Procesy plazmowe zachowują się jak złożone, zmienne obciążenie, które musi być stale zasilane przez generator. Odpowiadają za to aktywne sieci dopasowywania, tzw. układy dopasowujące, które zapewniają precyzyjne dopasowanie do optymalnej impedancji 50 omów w dowolnym momencie. Rezultatem jest idealnie dobrane rozwiązanie systemowe, system TRUMPF RF. Za pośrednictwem różnych interfejsów, m.in. EtherCAT, zasilacz i sieć dopasowywania można łatwo zintegrować z istniejącym środowiskiem procesowym, a dzięki inteligentnemu połączeniu zasilacza z siecią dopasowywania, funkcjonującemu pod nazwą SystemPort uzyskuje się optymalne rozwiązanie systemowe.
W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Proszę skontaktować się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Państwa kraju.
