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TruHeat MW 1000 / 3000 / 5000シリーズ

難度の高い加熱タスクに適したコンパクトなハイテクマイクロ波ジェネレーター

均一かつ正確で再現性の高いマイクロ波加熱

これまで産業用マイクロ波プロセスでは、加熱プロセスに影響を及ぼして、狙い通りの温度分布や再現性の高い結果を得ることはほとんどできませんでした。ですが今では、正確かつ迅速に制御可能な半導体ジェネレーターを使用することで、機械式可動コンポーネントや手間のかかるアプリケーター修正なしで、加熱プロセスを的確に最適化することが可能になりました。TruHeat MWシリーズでは、出力をアプリケーターの正確な共振周波数に合わせて非常に効率的に結合することができるため、結合出力が大幅に高まります。各種のセラミックス、プラスチックやガラスなどの材料の複雑な加熱プロセスも、誘電損失をごくわずかに抑えた形で初めて実現可能になりました。

150%の反射出力

内蔵型サーキュレーターが標準装備されているため、このジェネレーターは誤整合(全反射)の場合でも連続運転することができます。

1ミリ秒の切替時間

周波数を素早く切り替えることで、様々なフィールド分布もしくは加熱パターンを組み合わせて、狙い通りの温度分布を得ることが可能になります。

位相同期

マルチアンテナシステムでは、複数の異なるジェネレーターを位相同期で運転してパルスを発生させることができます。個々のジェネレーター間で位相関係を変えることで、フィールド・温度の均一性が非常に高いレベルで得られます。

正確な出力制御

ジェネレーターはパルス制御可能であるため、プラズマをナノ秒領域で極めて正確に制御して、プラズマ温度を最適に調整し、非熱プラズマを生成することが可能になります。

複数のジェネレーターとのリアルタイム通信

デジタルインターフェースEtherCatを使用して、装置を1ミリセカンド以内に瞬時に制御することが可能です。そのため、高精度の加熱と非常に正確な加工結果が得られます。

マグネトロン型と直接交換可能

既存の設備や使用を中止した設備の装備を簡単に変更して、技術的に大幅に改良された状態で再び使用開始することができます。その後その設備は中断なしで稼働するため、一度投資するだけで収益性の向上も可能になります。

平均以上の寿命

TruHeat MWシリーズのジェネレーターの稼働時間は、従来のマグネトロン型の約20倍に達します。

合成皮革の貼り合わせ

接着剤膜を主にマイクロ波で吸収するために、アプリケーション前に接着剤に吸収剤が組み込まれます。その間、合成皮革は低温のままであり続けます。更に、TruHeat MW 1000 / 3000シリーズを使用すれば、接着膜全体にわたる温度分散状態を非常に良くすることができます。その結果、品質の大幅な向上が可能になります。

マイクロ波真空乾燥によるドライフルーツ

マイクロ波乾燥なら、高品質のドライフルーツを可動コンポーネントなしで簡単に生産することができます。マイクロ波を狙い通りに変調することで、乾燥工程に合わせて調整した量のエネルギーを被乾燥物に均一に照射することが可能になります。

エンドレス繊維強化ポリマー用のマイクロ波3Dプリンター

マイクロ波を使用すれば、エンドレス繊維強化熱可塑性複合材料(CFRTP)の高速処理が実現します。ここでTRUMPFのジェネレーターが使用される理由は、出力の外部制御がリアルタイムで可能であるためです。これは、プリント速度が変化する曲線部で非常に重要になります。

プラスチックフィルムの効率的な非接触加熱

当社のジェネレーターは周波数選択性が高く、周波数の同調が簡単であるため、ロスが少ない試料(包装業界用のプラスチックフィルムなど)の効率的な加熱が実現します。

グラフェン生成

正確に設定したパルスマイクロ波ジェネレーターによる高品質3Dグラフェンパウダーの製造。

原子層堆積

半導体ベースのマイクロ波ジェネレーターを使用すれば、高密度プラズマを中断なく生成して、結晶成長プロセスに役立てることができます。ナノ秒パルスを使用することで、大幅な省エネが可能になります。

ケイ素加熱

多種多様なハイテクアプリケーションに向けたSiC/Siの高速加熱。

化学蒸着

半導体ベースのマイクロ波ジェネレーターを使用すれば、高密度プラズマを中断なく生成して、人工ダイヤモンドの製造に役立てることができます。既存のマグネトロン式装置のレトロフィットは問題なく実現可能です。

国によっては、この製品ラインナップと製品情報が異なる場合があります。技術、装備、価格及び提供アクセサリーは変更されることがあります。 現地担当者に問い合わせて、国内で製品を入手できるかどうかを確認してください。

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ハイテクマイクロ波用途に適した、高効率で革新的な2.45 GHz ISMバンドのGaNジェネレーター
これまで、マイクロ波プロセスの産業化での主なハードルと最大の欠点は、「手段」が欠けていたことでした。これまでは、加熱プロセスの均一性に影響を及ぼし、狙い通りの温度配分と再現性の高い加熱プロセスを可能にするには、回転プレートや攪拌装置などの機械式可動コンポーネントしか利用することができませんでした。
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Enhancing SiC and GaN Production Efficiency with TRUMPF Huettinger Power Supplies
This paper focuses on strategies to reduce operational and capital expenditures while improving quality in SiC/GaN production processes, and provides an in-depth look at various heating methods used in SiC/GaN manufacturing, including microwave, RF dielectric, DC resistive, and induction heating.

お客様向け情報

MF電源TruHeat MF 7000 (G2) シリーズ
組合せにより独自の形態を実現

TruHeat MF 7000 (G2) シリーズのジェネレータは、硬化や加熱などの典型的なアプリケーションだけでなく、結晶育成などの特殊アプリケーションにも適しています。

TruHeat HF 1000 3000 3000 (H) 5000シリーズの多数の使用範囲のうちの一つ: 焼きなまし
TRUMPF Hüttingerの誘導加熱

誘導加熱は難度の高い熱処理に適したソリューションであり、あらゆる加熱方法の中で最も高い効率を誇ります。ここでは当社製品について紹介しています。

Services_Inductions_Applications_Focus_on_Heating_Process
誘導加熱: 他社があきらめてしまう領域で、当社は本領を発揮します

特殊なアプリケーションが必要で、標準的なソリューションでは解決できない場合、当社はお客様の要求に合わせた誘導加熱プロセスを開発します。

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