HF-generatoren van de nieuwste generatie
Bij de coating of structurering van oppervlakken is een stabiele en reproduceerbare plasmastroomtoevoer van essentieel belang. Hiervoor bieden de met moderne vermogenselektronica uitgevoerde HF-generatoren van de TruPlasma RF-serie 1000 / 3000 (G2/13) de beste voorwaarden: dankzij hun stabiele uitgangsvermogen en hoge regelnauwkeurigheid verzekeren ze u van de beste resultaten bij een hoge productiviteit.
CombineLine-technologie: optimale procesprestaties dankzij een echte 50 ohm-uitgangsimpedantie.
Geen aanpassing van de kabellengte meer nodig – een absolute noviteit op het gebied van hoogfrequentie!
CombineLine-technologie: betrouwbare bescherming tegen gereflecteerd vermogen bij slechte aanpassingen.
Rendementen tot 80% maken een verlaging van de energiekosten met max. 50% mogelijk.
Geen verwarming of verontreiniging van de omgevingslucht, waardoor gebruik in een cleanroom mogelijk is.
Ideaal voor het coaten van flatscreens
De HF-generatoren uit de TruPlasma-serie RF 1000 / 3000 (G2/13) zijn ideaal voor plasmaprocessen zoals RIE, ALD, PECVD en RF-sputteren. Deze processen worden onder andere gebruikt bij de productie van halfgeleidercomponenten en micromechanische systemen (MEMS) en bij de coating van flatscreens en zonnecellen.
Typisch toepassingsgebied: de zonne-industrie
Typische toepassingsgebieden van de TruPlasma RF-serie 1000 / 3000 (G2/13) zijn veeleisende PECVD-, ets- en HF-sputterprocessen bij de productie van zonnecellen.
Halfgeleiderproductie
Bij de productie van halfgeleiders worden verschillende plasmaprocessen gebruikt, van afneemprocessen en droogetsen tot vloeibarezonesmeltprocessen bij de productie van zuiver silicium. De generatoren uit de TruPlasma RF-serie 1000 / 3000 (G2/13) bieden alle voorwaarden voor een stabiele en optimaal aan het betreffende proces aangepaste stroomtoevoer, zodat u uitstekende, reproduceerbare resultaten bereikt.
Optimale aanpassing aan uw proces
Het efficiënte realtime matchen van de TruPlasma RF-serie 1000 / 3000 (G2/13) zorgt voor een snelle en directe impedantie-aanpassing aan 50 Ohm. Plasmaschommelingen en verontreinigingen worden door de gepatenteerde CombineLine-technologie op betrouwbare wijze voorkomen, het ventilatorloze koelconcept verlaagt het uitvalpercentage, verhoogt de efficiëntie en maakt gebruik in cleanrooms mogelijk.
Maximale efficiëntie en flexibiliteit
Dankzij het hoge rendement van max. 80% dalen uw energiekosten in vergelijking met traditionele generatoren met max. 50%. De talrijke beschikbare interfaces (configureerbare analoge interface, RS 232/485, DeviceNet, PROFIBUS, EtherCAT) vereenvoudigen de integratie in bestaande installaties, technische aanpassingen zijn dankzij de geïntegreerde wereldstekkers (200 - 480 VAC) niet nodig. De ondanks de hoge energiedichtheid compacte bouwvorm (19 inch- of ½-19 inch-insteekeenheid) maakt plaatsbesparende integratie in elke productie-installatie mogelijk.
TRUMPF SystemPort
De SystemPort maakt een gesloten regelcircuit mogelijk door het meten van het RF-signaal rechtstreeks op de in- en uitgang van het aanpassingsnetwerk. Voor de RF-generator zijn alle meetwaarden beschikbaar. Daardoor kunnen procesparameters beter worden bewaakt, het aanpassingsnetwerk worden beschermd en een tijdige vlamboogherkenning worden gewaarborgd. Het volledige RF-systeem kan daardoor via een enkele generatorinterface worden bediend.
Verschillende opties maken een optimale aanpassing van de HF-generator aan uw toepassing mogelijk.
De gepatenteerde oplossing Auto Frequency Tuning maakt een gelijktijdige en snelle frequentieaanpassing mogelijk en garandeert een optimaal samenspel tussen generator en aanpassingsnetwerk. Door deze gepatenteerde techniek vormt een plaatselijk minimum geen hindernis meer: het RF-systeem wordt optimaal gehouden en maakt daardoor de beste procesresultaten en een hoge reproduceerbaarheid mogelijk.
Het doordachte vlamboogbeheer is de ideale module voor de beste controle van het plasmaproces. Een gerichte vlamboogherkenning garandeert de beste productiviteit en beschermt tegelijkertijd het product en de installatie.
Alle componenten van het TRUMPF-RF-systeem zijn optimaal op elkaar afgestemd.
Perfect op elkaar afgestemd: het TRUMPF-RF-systeem
Plasmaprocessen gedragen zich als een complexe, variabele belasting die constant moet worden gevoed door de generator. Hier zorgen actieve aanpassingsnetwerken voor, die op elk moment een nauwkeurige aanpassing aan de optimale impedantie van 50 Ohm waarborgen. Zo ontstaat een perfect op elkaar afgestemde systeemoplossing; het TRUMPF RF-systeem. Via diverse interfaces, waaronder EtherCAT, kunt u de generator en het aanpassingsnetwerk heel eenvoudig in uw bestaande procesomgeving integreren en door een intelligente verbinding tussen generator en aanpassingsnetwerken, de zgn. SystemPort, bereikt u een optimale systeemoplossing.
Afhankelijk van het land kunnen het productaanbod en deze gegevens afwijken. Wijzigingen in techniek, uitvoering, prijs en aanbod van accessoires voorbehouden. Neem contact op met uw contactpersoon ter plaatse om te vragen of het product in uw land verkrijgbaar is.
