Lựa chọn quốc gia/khu vực/ và ngôn ngữ
Bộ khuếch đại tia Laser của TRUMPF dùng để chế tạo Chip hiệu suất cao
Công nghệ Laser CO2

Bộ khuếch đại laser TRUMPF

Xung laser tạo nền tảng cho việc sản xuất vi mạch trong tương lai.

Công nghệ quang khắc siêu cực tím như một công cụ hỗ trợ cho thời đại kỹ thuật số

Công nghệ quang khắc siêu cực tím giành chiến thắng trong cuộc đua trở thành phương pháp sản xuất vi mạch trong tương lai. Trong nhiều năm, ngành công nghiệp bán dẫn đã tìm kiếm một phương pháp tiết kiệm chi phí và có thể sản xuất hàng loạt để đưa những cấu trúc nhỏ hơn lên các tấm mỏng silicon. ASML, Zeiss và TRUMPF đã cùng nhau phát triển công nghệ tạo ra ánh sáng siêu cực tím (EUV) có bước sóng 13,5 nanomet để sử dụng trong công nghiệp: Trong buồng chân không, máy tạo giọt bắn ra 50.000 giọt thiếc nhỏ nhất mỗi giây. Mỗi giọt này sẽ bị tác động bởi một trong 50.000 xung laser, biến đổi thành plasma. Quá trình này tạo ra ánh sáng bức xạ siêu cực tím được chiếu vào các tấm mỏng cần chiếu sáng thông qua gương. Xung laser cho phát xạ plasma được cung cấp bởi hệ thống laser CO2-tạo xung được phát triển bởi TRUMPF - Bộ khuếch đại laser TRUMPF.

Từ vài watt đến 40 kilowatt

Bộ khuếch đại laser TRUMPF khuếch đại xung laser lần lượt lên hơn 10.000 lần.

Hiệu quả và an toàn về quy trình

Bằng cách phát ra xung trước và xung chính, toàn bộ công suất của bộ khuếch đại laser có thể được truyền đến giọt thiếc.

Ứng dụng mới cho laser CO2

Hệ thống laser công suất cao này dựa trên laser CO2 hoạt động ở chế độ sóng liên tục. Với hệ thống này, TRUMPF đang tạo ra một ứng dụng mới cho công nghệ.

Mạng lưới chuyên gia lớn

Qua nhiều năm hợp tác chặt chẽ, TRUMPF, ASML và ZEISS đã đưa công nghệ EUV đến giai đoạn chín muồi trong công nghiệp.

Bộ phận

… chứa một bộ khuếch đại laser.

Mét

... Cáp được tích hợp vào hệ thống.

Ki lô

... là tổng trọng lượng.

Các thành phần trọng tâm của Bộ khuếch đại laser TRUMPF

Liên hệ
Hệ thống laser công suất cao quang khắc siêu cực tím
E-Mail