Dưới góc nhìn của giới truyền thông: Công nghệ quang khắc siêu cực tím

Dieser Bericht des Handelsblatts ist anlässlich der im Mai 2019 veranstalteten, gemeinsamen Pressereise von TRUMPF, Zeiss und ASML entstanden. Die Autoren beleuchten die Zusammenarbeit der Partner, zeichnen die Entwicklung von EUV nach und geben mit Zitaten, unter anderem von Peter Leibinger, Chief Technologie Officer bei TRUMPF, Einblicke in das Potenzial der Zukunftstechnologie.

Quelle: Handelsblatt
Autor: Martin-W. Buchenau, Joachim Hofer
Erscheinungsdatum: 05/2019
Link: zum Artikel

Die News auf optics.org berichtet, dass trotz zunehmender, makroökonomischer Unsicherheiten die Nachfrage nach Lithografiesystemen von ASML konstant bleibt. Schlüsselkunden wie Samsung und TSMC geben ihre Pläne für den Einsatz von EUV-Systemen in der zukünftigen Produktion von Chips bekannt. Diese werden für neue Anwendungen in den Bereichen 5G, künstliche Intelligenz, Hochleistungsrechnen und Automotive dringend gebraucht – wie Charlie Bae von Samsung schon lange vorhergesagt hat.

Quelle: www.optics.org
Autor: n.N.
Erscheinungsdatum: 04/2019
Link: zum Artikel

Trong bài viết trên trang Golem.de, nhà báo Marc Sauter đưa tin, Samsung Foundry đã hoàn thành &quy trình phát triển Chip 5-nm-& bằng công nghệ tia siêu cực tím (EUV) và hiện đang xử lý nhiều hợp đồng của khách hàng. Phương pháp mới có thể tăng mật độ bóng bán dẫn lên 25% và giảm mức tiêu hao năng lượng của Chip xuống 20%, đồng thời tăng tốc độ tính toán lên 10%.

Nguồn: www.golem.de
Tác giả: Marc Sauter
Ngày phát hành: 04/2019
Link: Chuyển đến bài báo

Heise.de đưa tin trong bài báo này là vào mùa thu 2018, Samsung đã hoàn thiện dây chuyền sản xuất chip 7 nm đầu tiên của mình và phơi sáng các phiến silicon bằng hệ thống quang khắc siêu cực tím của ASML. Nguồn: www.heise.de
Tác giả: Nico Ernst
Ngày phát hành: 10/2018
Link: Chuyển đến bài báo

Báo cáo thường niên TRUMPF 2017/2018 nêu rõ các biện pháp kiểm soát các loại tia - cũng như công nghệ tia Laser và công nghệ quang khắc siêu cực tím - tạo nền tảng vững chắc cho công nghệ tương lai như trí tuệ nhân tạo, công nghệ không người lái và nhà máy kết nối mạng.

Nguồn: &Báo cáo thường niên TRUMPF GJ 2017/2018
Tác giả: &Công ty trách nhiệm và hợp danh hữu hạn TRUMPF
Ngày phát hành: 10/2018
Link: Chuyển đến bài báo

Bài báo trên golem.de thông báo rằng ASML đã cải thiện đáng kể các hệ thống NXW: 3400B để tiến gần đến công nghệ sản xuất hàng loạt một cách hiệu quả về thời gian và chi phí với sự hỗ trợ của công nghệ bức xạ siêu cực tím. Nguồn: www.golem.de
Tác giả: Marc Sauter
Ngày phát hành: 07/2018
Link: Chuyển đến bài báo

Trong bài viết này, LaserFocusWorld theo dõi quá trình phát triển hơn hai mươi năm của công nghệ tia siêu cực tím và mô tả nhiều rào cản cũng như thách thức đã phải vượt qua trước khi đạt tới bước đột phá vào năm 2015.

Nguồn: LaserFocusWorld
Tác giả: Andreas Thoss
Ngày phát hành: 11/2017
Link: Chuyển đến bài báo

Bài báo này trong tạp chí chuyên ngành &Sản xuất& đề cập đến việc TRUMPF tiếp quản phần lớn công ty Access. Là nhà sản xuất tia Laser CO₂ công suất thấp, Access Laser là một trong những đối tác quan trọng nhất trong lĩnh vực kinh doanh công nghệ tia siêu cực tím của TRUMPF. Nguồn: www.optics.org
Tác giả: n.N.
Ngày phát hành: 10/2017
Link: Chuyển đến bài báo

Thời báo Stuttgart đưa tin về cách thức TRUMPF gia nhập nghành công nghệ bán dẫn với bộ nguồn laser tự phát triển và đã thành lập một công ty con chuyên kinh doanh mảng này. Nguồn: Báo Stuttgart
Tác giả: Michael Heller
Ngày phát hành: 05/2017
Link: Chuyển đến bài báo

Bài viết trong tạp chí cuối tuần chuyên ngành điện tử &Thị trường&Công nghệ& tóm lược doanh số hiện tại và dự toán của ASML, cho thấy công nghệ quang khắc siêu cực tím cuối cùng đã xuất hiện trong nền công nghiệp. Nguồn: Thị trường &Công nghệ
Tác giả: Heinz Arnold
Ngày phát hành: 07/2017
Link: Chuyển đến bài báo