HiPIMSアプリケーションでの第一候補
TruPlasma Highpulse 4000 (G2) シリーズのジェネレータは、直流スパッタリングジェネレータの代わりとして、改造を行うことなく既存のマグネトロンシステムで使用できます。硬い材料のコーティングにおいて、特に高い耐腐食性及び耐摩耗性が得られるため、HIPIMSアプリケーションに打って付けです。
最大4 MWにまで達する申し分のないピーク出力により、イオンが大量に流れる極めて高いプラズマ密度が生成されます。
既存のカソードシステムやプロセス条件に容易に適合可能であるため、装置を理想的に組み込むことができます。
パルスPVDスパッタリングプロセスの最新技術であるHiPIMSでは、硬い材料のコーティングにおいて、極めて高い耐腐食性及び耐摩耗性が得られます。
直流モードでも使用可能であり、直流電力ジェネレータを追加する必要はありません。
硬い材料のコーティング
機能膜の成膜により、強い負荷にさらされる製品の縁の硬さ及び付着摩擦が高まり、熱安定性と化学的安定性が向上します。TruPlasma Highpulse 4000 (G2) シリーズのジェネレータでは、極めて安定したプラズマプロセスとそれに伴う卓越した膜品質が保証されます。
半導体/太陽光発電
太陽光発電及び半導体分野におけるオーダーメイドのプロセスエネルギーには、多数の用途領域があります。TruPlasma Highpulse 4000 (G2) シリーズのジェネレータは、各プロセスに合わせて最適にカスタマイズすることが可能であり、卓越したコーティングパラメータと高い生産性が得られます。
ガラスコーティング
建築用ガラスの広範囲に及ぶコーティングをPVDプラズマプロセスで行う際には、プロセス電力供給に対する要件が極めて高くなります。TruPlasma Highpulse 4000 (G2) シリーズのジェネレータは、高品質なコーティング結果を得るための理想的な必要条件を備えています。
最適なプロセス結果
高いピーク出力により高度にイオン化したプラズマが生み出され、イオンが大量に流れるようになります。それにより、微小液滴のない極めてコヒーレントで高密度の膜が生成可能になります。TruPlasma Highpulse 4000 (G2) シリーズのジェネレータでは、分極した基質構成と組み合わせることで、エッチングやトレンチフィリング用途で卓越した結果が得られます。
フルデジタルアーク管理
設定可能なパルス時間/周波数、拡張型出力パラメータと、アークエネルギーが極めてわずかなフルデジタルアーク管理により、液滴のないスパッタリングと欠陥がほとんどない膜が実現し、高い膜品質と析出率が保証されます。
秀逸なコーティング
高エネルギーと最大2 kVの高電圧により、高品質コーティングが小さな研究室でも大型の工業設備でも実現します。最大5 msのパルスと最大10 kHzの周波数により析出率が高まり、トータル運用コストの削減につながります。
高いプロセス安定性
周波数の設定が可能な出力制御により、析出パラメータが要件の高い反応性プロセスであっても一定に保たれます。その結果、介入する必要性が発生することなく、何時間にも何日にもわたってプロセスの安定性が維持されます。
コンパクトなユニット
TruPlasma Highpulseシリーズのジェネレータは、コンパクトサイズのユニットです。外部の直流電力供給装置が不要であり、完全に水冷式であるため、クリーンルームでの作業が可能になります。
様々なオプションにより、TruPlasma Highpulse 4000 (G2) シリーズをご自分のアプリケーションに合わせて最適にカスタマイズできます。
フルデジタルアーク管理は、極めてわずかなアークエネルギーで、高い膜品質と析出率を実現します。
PVD Power
使いやすく、複数の言語に対応するソフトウェアPVD Powerにより、プロセス品質の最適化と効果的なトラブルシューティングを目的として、様々な操作、構成及び診断を行うことができます: 関連する全プロセスパラメータの実測値、警告、アラームメッセージの表示、オペレータによる規定値の指定、及び高い時間分解能による重要な運転パラメータの記録と可視化 (オシロスコープ機能)。
国によっては、この製品ラインナップと製品情報が異なる場合があります。技術、装備、価格及び提供アクセサリーは変更されることがあります。 現地担当者に問い合わせて、国内で製品を入手できるかどうかを確認してください。
