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直流プラズマジェネレータ技術のイメージ

プラズマ(励起用)電源

TRUMPF Hüttingerのプラズマ(励起用)電源は、多数のハイテク業界で必要とされているプロセス電力を供給することで、ソーラーセルとマイクロチップの機能性コーティング、建築用ガラスの大面積コーティング、そして半導体部品とフラットパネルディスプレイの製造を可能にしています。精度、エネルギー効率とプロセス安定性が極めて高いこのプラズマ(励起用)電源は、市場のトップクラスに属しています。

MF電源

精度と生産性が極めて高いため、プラズマ励起での多数のアプリケーションにとって理想的なソリューションです。

直流パルス電源

TRUMPF Hüttingerの直流パルス電源は、様々な反応性プロセスでの使用に理想的です。

直流電源

TRUMPF Hüttingerの直流電源は、プラズマ励起による代表的な製品です。

高周波電源

半導体部品、マイクロチップ、ソーラーセルやフラットスクリーンの製造などの要件の高いアプリケーションに最適です。

MF電源

TruPlasma MW 1000 / 3000 / 5000シリーズ

TruPlasma MWシリーズのソリッドステート型MF電源では、革新的なプラットフォームコンセプトが採用されており、難度の高いプロセス要件に適した最高レベルのプラズマ密度が生み出されます. ナノパルスにより、様々なプラズマパラメーターを希望の用途に合わせて最適に調整することが可能です

MF電源

TruPlasma Bipolar 4000 (G2.1)シリーズ

TruPlasma Bipolar 4000 (G2.1) シリーズのプロセス電力供給装置では、柔軟に構成可能な出力信号及び洗練されたアーク管理により、ソーラーセルや半導体の製造、装飾的で耐摩耗性の膜のコーティング、並びに建築用ガラスのコーティングの際に、極めて優れた結果が得られます。最新世代の電源は、反応性スパッタリング、PVDやPECVDなど難度の高いプラズマプロセスに理想的です。

TruPlasma MF 7000 (G2) シリーズ

TruPlasma MF 7000 (G2) シリーズのMF電源では常にプロセスを制御可能 – その結果、要件の高い大面積のコーティング用途でも卓越したコーティング品質と最高の生産性を得ることができます。ピーク効率は90 %を超える電力供給を備えた最新世代の電源は、運転中も優れた経済性を確保できます。

直流パルス電源

TruPlasma Highpulse 4000 (G2) シリーズ

HIPIMSアプリケーションに打って付けのTruPlasma Highpulse 4000 (G2) シリーズのプロセス電力供給装置では、硬質素材のコーティングにおいて、特に高い耐腐食性及び耐摩耗性が得られます。TruPlasma Highpulse 4000 (G2) シリーズは、分極した基板と組み合わせることで、トレンチフィリング、表面の前処理やエッチングなどの半導体アプリケーションにも使用できます。

TruPlasma DC 4000 (G2) シリーズ

TruPlasma DC 4000 (G2) シリーズは、TRUMPF Hüttingerの優れたアーク処理と直流パルス技術の利点を兼ね備えています。このため、コーティングの仕上がりがさらに向上し、損傷を少なくすると同時に高い蒸着率を実現します。その結果、鮮やかな表面と高い生産能力を得ることができます。

直流電源

TruPlasma DC 3000 (G2) シリーズ

直流電源の新世代であるTruPlasma DC 3000 (G2) シリーズは、多数の直流スパッタリングプロセスに適しています。先進的なアーク管理と内蔵されている水冷装置を特長とする直流電源は、低コストな選択肢として直流パルス電源の代わりに使用することもできます。極めてコパクトな構造であるため、既存のアプリケーションに簡単に統合できます。

TruPlasma Arc 3000シリーズ

TruPlasma Arc 3000シリーズの電源は、硬質素材のコーティングや装飾的なコーティングで特に威力を発揮します。コンパクトなサイズと空冷により、貴重な有効面積の最適活用が保証され、新規または既存のシステムへの統合が簡単になります。

高周波電源

TruPlasma RF Air 1000シリーズ

空冷式高周波電源TruPlasma RF 1001 Airからは、最大1000 Wの高精度で再現性のある高周波電力が供給され、100 mW単位の極めて精緻な設定が可能であるため、多種多様なプラズマアプリケーションに適しています。半導体、ソーラーセルやディスプレイの製造などの用途を問わず、TRUMPF Hüttingerの特許取得済み技術と最新のプロセス機能により、常に稼働率の最大化と最高の加工精度が保証されます。

TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) シリーズ

TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) シリーズは、最新世代の高周波電源です。特許取得済みのCombineLineカップリングテクノロジー、または全プロセスパラメータのリアルタイム測定などの革新的な機能は、要件の高いプラズマプロセスでも高精度な電力供給を保証します。これは再現可能な結果と高い生産性を得るためには最も適した最適条件 です。

TruPlasma RF 3000シリーズ

高出力のTruPlasma RF 3000シリーズ高周波電源は、最高効率とプロセス安定性を特長としています。これは、フラットパネルディスプレイ、ソーラーセルまたは半導体の製造などで使用される、要求の高いプラズマプロセスに理想的です。インピーダンス整合の際に電源に精密に合わせて調整された整合器は、電源からプラズマに随時最適なパワーが安定して伝達されるよう保証します。

TruPlasma VHF 3000シリーズ

プロセスの最大出力を引き出す: TruPlasma VHF 3000シリーズの電源は、難度の高いプロセス要件を満たす、革新的なプラットフォームコンセプトに基づいています。VHF電源は、モジュール式で水冷のみによる構造であるため、最も狭い空間でも出力を最大80 kWまで拡大できます。

TruPlasma Match 1000 (G2/13) シリーズ

プラズマプロセスを最適に管理するためには、高周波電源の出力インピーダンスを正確に整合させることが極めて重要です。これは、電源とプロセスとの間を結ぶTruPlasma Match 1000 (G2/13) シリーズの整合器によって行われます。この方法により、プロセス電力供給の全体的なソリューションであるTRUMPF RFシステムを構築することができます。

お客様向け情報

TRUMPF Hüttinger’s Innovation Summit

From September 30 to October 1, 2025, explore cutting-edge plasma technology at TRUMPF Hüttinger’s Innovation Summit in Poland – with live demos, expert talks, and real-world applications.

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当社の強みである顧客向けカスタマイズ研修

内容を受講者のニーズに合わせて構成した上で、経験豊かなサービスエンジニアが確かな知識を伝授します。

化石燃料から電気への転換

当社では、お客様の産業用加熱プロセスの電化を可能にするお手伝いをしています。

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