Výběr země / regionu a jazyka
Soubor článků pro EUV litografii

V zájmu médií: EUV litografie

Extrémní ultrafialové záření (EUV) pro osvětlení waferu je bezpochyby tématem budoucnosti v čipovém průmyslu. Není proto divu, že se tímto tématem pravidelně zabývá odborný, ale i popularizační tisk a probíhá vývoj technologie. Na této straně najdete přehled několika nejvýznamnějších národních a mezinárodních článků.

ASML's EUV systems pattern new Samsung and TSMC chips

Die News auf optics.org berichtet, dass trotz zunehmender, makroökonomischer Unsicherheiten die Nachfrage nach Lithografiesystemen von ASML konstant bleibt. Schlüsselkunden wie Samsung und TSMC geben ihre Pläne für den Einsatz von EUV-Systemen in der zukünftigen Produktion von Chips bekannt. Diese werden für neue Anwendungen in den Bereichen 5G, künstliche Intelligenz, Hochleistungsrechnen und Automotive dringend gebraucht – wie Charlie Bae von Samsung schon lange vorhergesagt hat.

Quelle: www.optics.org
Autor: n.N.
Erscheinungsdatum: 04/2019
Link: zum Artikel

5nm EUV proces společnosti Samsung je připraven

Autor Marc Sauter v tomto článku na Golem.de uvádí, že společnost Samsung Foundry dokončila vývoj 5nm metody s extrémním ultrafialovým zářením (EUV) a od této chvíle přijímá od zákazníků zakázky. Díky této nové metodě lze zvýšit hustotu tranzistorů o 25 % a čipy zároveň mají o 20 % nižší spotřebu energie, resp. o 10 % vyšší výpočetní výkon.

Zdroj: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Datum vydání: 04/2019
Odkaz: na článek

Samsung vyrábí 7nm čipy za pomoci EUV osvětlení

Web Heise.de v tomto článku informuje o tom, že Samsung zahájil na podzim 2018 výrobu ve své první 7nm továrně, kde osvětluje wafery pomocí EUV litografického systému společnosti ASML. Zdroj: www.heise.de
Autor: Nico Ernst
Datum vydání: 10/2018
Odkaz: na článek

Disponibilita EUV skenerů se zvýšila na 85 procent

Článek na webu golem.de oznamuje, že společnost ASML vylepšila své systémy NXW:3400B natolik, že se reálně přiblížila cenově a časově efektivní sériová výroba s extrémním ultrafialovým zářením. Zdroj: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Datum vydání: 07/2018
Odkaz: na článek

The secret of EUV generation

LaserFocusWorld v tomto článku zachycuje více než dvacetiletý vývoj EUV technologie a popisuje četné překážky a výzvy, se kterými bylo nutné se vypořádat až do průlomu v roce 2015.

Zdroj: LaserFocusWorld
Autor: Andreas Thoss
Datum vydání: 11/2017
Odkaz: na článek

TRUMPF consolidates EUV lithography supply chain with Access Laser deal

Tato zpráva v odborném časopise "Produktion" se zabývá převzetím většinového podílu ve společnosti Access společností TRUMPF. Jako výrobce nízkovýkonových CO2 laserů je společnost Access Laser jedním z nejdůležitějších partnerů společnosti TRUMPF v oblasti EUV. Zdroj: www.optics.org
Autor: n.N.
Datum vydání: 10/2017
Odkaz: na článek

TRUMPF chce udělat revoluci v čipovém průmyslu

Noviny "Stuttgarter Zeitung" informují, jak vstoupila společnost TRUMPF se svým produktem Laser Amplifier jako dodavatel do polovodičového průmyslu a pro svůj obchod založila novou dceřinou společnost. Zdroj: Stuttgarter Zeitung
Autor: Michael Heller
Datum vydání: 05/2017
Odkaz: na článek

Také by vás mohla zajímat tato témata

TRUMPF Laser Amplifier pro výrobu vysoce výkonných čipů
TRUMPF Laser Amplifier

TRUMPF Laser Amplifier poskytuje laserové impulzy, základ pro výrobu budoucích mikročipů. Zjistěte více o technologicky vyspělém CO2-laserovém zařízení. 

Čipy vyrobené pomocí TRUMPF Laser Amplifier
EUV litografie

Bez extrémního ultrafialového světla žádné moderní počítačové čipy. Jakou úlohu mají vysoce výkonné CO2 laserové systémy od společnosti TRUMPF při výrobě polovodičových struktur si přečtěte zde.

Vizuální elektronika
Elektronika

Od opracování laserem až po pěstování krystalů: společnost TRUMPF dodává základní technologie pro výrobu výkonných polovodičů v odvětví elektroniky.

Kontakt
Vysoce výkonné laserové systémy EUV litografie
E-mail