Jednotné řešení vysokofrekvenčního systému
Nové matchboxy TruPlasma Match série 1000 (G2/13) představují ideální doplněk vysokofrekvenčních generátorů od TRUMPF Hüttinger. Díky inteligentnímu algoritmu přizpůsobení a digitální řídicí platformě vzniká jednotné řešení, v němž všechny komponenty optimálně spolupůsobí: TRUMPF RF systém.
Rychlé, stabilní a opakovatelné přizpůsobení impedance 50 ohmům dokonce i v kritických procesech.
Pokrokový software a vylepšená komunikace mezi generátorem a matchboxem.
Rychlé sledování systému při každé změně impedance matchboxu a zátěže.
Optimální kontrola procesních parametrů a včasné rozpoznání elektrického oblouku.
Grafická ovládací plocha a efektivní nástroje (Smithův diagram, osciloskop v reálném čase).
Výroba polovodičů, solárních článků a plochých obrazovek
Při výrobě polovodičů, solárních článků a plochých obrazovek jsou rozhodující stabilní plazmové procesy. Ve spojení s vysokofrekvenčními generátory TRUMPF Hüttinger nabízí matchboxy TruPlasma Match série 1000 (G2/13) komplexní řešení pro maximální procesní stabilitu a produktivitu.
Nanášení vrstev s tvrdými materiály a odolných vůči opotřebení
Nanášením funkčních vrstev získávají silně namáhané obrobky vyšší mechanickou tvrdost a lepší tepelnou a chemickou stabilitu. Matchboxy TruPlasma Match série 1000 (G2/13) zajišťují v souladu s vysokofrekvenčním generátorem TRUMPF Hüttinger dokonalou kvalitu vrstvy.
Odstranění a povlakování povrchů
Matchboxy TruPlasma Match série 1000 (G2/13) lze použít ve všech obvyklých plazmových procesech k povlakování nebo odstranění povrchů, např. plazmové leptání, reaktivní iontové leptání, ALD, PECVD, vysokofrekvenční naprašování nebo plazmové spalování fotocitlivého materiálu. V souladu s vysokofrekvenčním generátorem TRUMPF Hüttinger je docíleno optimálních výsledků procesu.
Vždy dokonalá procesní kontrola
Matchbox vždy zajišťuje rychlé a přímé přizpůsobení impedance 50 ohmům, tím je vždy zaručen plný dodávaný výkon vysokofrekvenčního generátoru do procesu. Bezproblémová komunikace mezi matchboxem a generátorem umožňuje optimální sledování procesu a včasnou identifikaci elektrického oblouku.
Přehled všech parametrů
Měření vysokofrekvenčního vstupního a výstupního výkonu v reálném čase signalizuje dynamické změny impedance, senzory chlazení umožňují spolehlivou předpověď ztrátového výkonu. Díky grafickému ovládacímu softwaru s komplexními možnostmi zobrazení (Smithův diagram, osciloskop v reálném čase) máte přehled o všech relevantních procesních parametrech.
TRUMPF SystemPort
SystemPort umožňuje uzavřený regulovaný oběh pomocí měření RF signálu přímo na vstupu a výstupu matchboxu. RF generátor má k dispozici veškeré naměřené hodnoty. Díky tomu lze lépe monitorovat procesní parametry, chránit matchbox a zaručit včasnou identifikaci elektrického oblouku. Kompletní RF systém lze řídit pomocí jednoho generátorového rozhraní.
Vysoce přesné měření AC pro zjištění odchylek plazmatu, umístěné do matchboxu v blízkosti procesu, přímo u komory.
Jako volitelná rozhraní jsou k dispozici analogové/digitální, PROFIBUS a EtherCAT. Standardní rozhraní jsou EtherNet, SystemPort a RS232/485.
Promyšlená správa elektrického oblouku je ideálním modulem pro optimální kontrolu plazmového procesu. Cílená identifikace elektrického oblouku zaručuje maximální produktivitu a zároveň chrání výrobek a zařízení.
Grafický ovládací software
Komplexní grafická znázornění umožňují rozsáhlou kontrolu všech relevantních procesních parametrů. Impedance zátěže a matchboxu jsou vizualizovány prostřednictvím Smithova diagramu, vysokofrekvenční vstupní a výstupní výkon včetně kmitočtové a fázové polohy pomocí osciloskopu v reálném čase.
TruControl Power
Uživatelsky přívětivý řídicí software TruControl Power umožňuje pohodlné uvedení do provozu a bezpečnou kontrolu vysokofrekvenčního generátoru, příp. celého TRUMPF RF systému za provozu.
Komplexní grafická znázornění umožňují rozsáhlou kontrolu všech relevantních procesních parametrů. Impedance zátěže a matchboxu jsou vizualizovány prostřednictvím Smithova diagramu, vysokofrekvenční vstupní a výstupní výkon včetně kmitočtové a fázové polohy pomocí osciloskopu v reálném čase.
Pomocí master oscilátorů je možné stabilizovat a optimalizovat kritické synchronní plazmové procesy. Integrovaný digitální frekvenční a fázový syntetizátor zajišťuje vysokou frekvenční a fázovou stabilitu a umožňuje nastavení fázové polohy s velmi malou velikostí kroku. Lze vybrat různá provedení master oscilátorů pro frekvenci 13,56 MHz a různé kombinace frekvencí.
VF přepínač dovoluje vícenásobné použití vysokofrekvenčního generátoru na různých plazmových procesních stanicích, například pro elektrické napájení postupných procesů nebo v systémech s různými napájecími body. K dispozici jsou různé VF přepínače ve dvou výkonových třídách a s 2, 3 nebo 4 výstupy.
Pro přenos vysokofrekvenčního výkonu nabízí TRUMPF Hüttinger koaxiální kabely, které jsou speciálně vytvořeny pro provoz v 50ohmových systémech.
Optimální ovládání plazmového procesu
Plazmové procesy se chovají jako komplexní, proměnlivé zatížení, ke kterému je nutné generátorem neustále dovádět elektrické napájení. To činí aktivní přizpůsobovací sítě, tzv. matchboxy, které zajišťují vždy přesné přizpůsobení optimální impedanci 50 ohmů. Tak vzniká dokonale přizpůsobené systémové řešení, systém TRUMPF RF. Pomocí různých rozhraní, mj. EtherCAT, můžete generátor a matchbox velmi jednoduše integrovat do svého stávajícího procesního prostředí a díky inteligentnímu spojení matchboxu a generátoru, tak zvaného SystemPort, dosáhnout optimalizovaného systémového řešení.
V závislosti na zemi se může tento produktový sortiment a tyto údaje lišit. Změny techniky, vybavení, cena a nabídka příslušenství jsou vyhrazeny. Pro zjištění dostupnosti výrobku ve vaší zemi prosím kontaktujte svoji kontaktní osobu.
