TRUMPF Laser Amplifier

С лазерния импулс осигурява базата за производството на бъдещите микрочипове.

Към контактите

EUV литографията като билет за дигиталната ера

EUV литографията печели състезанието за метода на производство на микрочиповете от бъдещето. В продължение на много години индустрията за производство на полупроводници търсеше икономична по отношение на разходите и позволяваща масово производство технология, с която да могат да се осветяват още по-малки структури върху силициеви пакети. В съвместно партньорство ASML, Zeiss и TRUMPF разработиха технология за получаване на екстремно ултравиолетова светлина (EUV) с дължина на вълната 13,5 нанометра за промишлена употреба: във вакуумна камера генератор на капки подава 50 000 много малки капки калай в секунда. Всяка от тези капки се среща с един от 50 000 лазерни импулса, който я превръща в плазма. По този начин се получава EUV светлина, която се насочва от огледала към пакета за осветяване. Лазерният импулс за облъчването на плазмата се предоставя от разработена от TRUMPF импулсна CO₂ лазерна система – TRUMPF Laser Amplifier.

От няколко вата до 40 киловата

TRUMPF Laser Amplifier усилва лазерен импулс последователно с повече от 10 000 пъти.

Ефективно и надеждно

Чрез излъчването на предварителен и основен импулс е възможно пълната мощност на Laser Amplifier да се прехвърли към капките калай.

Ново приложение за CO₂ лазер

Базата за системата с висока мощност е CO2 лазер в cw режим. По този начин TRUMPF създава ново приложение за технологията.

Голяма мрежа от специалисти

С дългогодишното си тясно сътрудничество TRUMPF, ASML и ZEISS направиха технологията EUV подходяща за употреба в индустрията.

Части

… съдържа Laser Amplifier.

метра

... Кабелите са вградени в системата.

килограма

... е общото тегло.

Централни компоненти за TRUMPF Laser Amplifier

High Power Seed Module (HPSM)

High Power Seed Module (HPSM) се състои от два Seedlaser, които генерират изходни импулси от по няколко вата, както и от редица активни и пасивни оптични компоненти, които формират лазерния лъч и осигуряват оптимална дължина на импулса. С помощта на усилвател светлината се усилва предварително до порядъка на 100 W. Seedlaser са защитени оптимално срещу обратно отразяване чрез защитни механизми така, че стабилността на цялата система се увеличава значително и необходимата константна EUV мощност може да бъде достигната.

High Power Amplification Chain (HPAC)

High Power Amplification Chain (HPAC) се състои от четири резонатора за увеличаване на мощността, които са свързани помежду си чрез насочващи лъча елементи. Всеки резонатор е оптимизиран за съответното ниво на усилване (напр. вентилатор, RF възбуждане, смесване на газове, насочване на лъч). Три различни охлаждащи кръга осигуряват необходимата стабилност на системата. Кратките импулси осигуряват екстремно висока пикова изходна мощност в диапазона на MW. Обширна онлайн метрология предоставя основата за постоянно измерване на лъча.

Лазерен усилвател за система за транспорт на лъча на TRUMPF

Beam Transport System (BTS)

Beam Transport System (BTS), състояща се от основна плоча, перископ и огледало, транспортира лазерния лъч на до 30 метра по посока на камерата за капки. По принцип за ниската абсорбция и замърсяването от решаващо значение са както механичната стабилност на системата при високо натоварване, така и плътността на хода на лъча. Огледалата имат специално покритие, за да се абсорбира възможно най-малко лазерна светлина.

Лазерен усилвател за фокусиращ модул на TRUMPF

Optical Platform FFA (Final Focusing Assembly)

FFA се състои от две части на системата: Optics Platform и Focusing Unit. За генерирането на идеален плазмен импулс е необходимо лазерният импулс да се срещне почти изцяло с капката калай. Тъй като капката калай обаче е по-малка от диаметъра на лазерния лъч, в Optics Platform се извършва разделяне на Pre- и Main-Puls и се постига оптимално генериране на EUV. Pre-Pulse първо среща капката калай с по-ниска импулсна мощност така, че капката се сплесква до подобна на диск структура и площта ѝ се увеличава. Подаваният след това Main-Pulse се абсорбира от получения течен филм и се образува същинската плазма, която генерира EUV лъчение. По този начин 40 киловата лазерна мощност се оползотворяват ефективно и се гарантира надеждно за процеса генериране на плазмени импулси за експозицията. Focusing Unit осигурява оптимално фокусиране на лазерната светлина върху капките калай.