Избор на държава/регион и език
Визуална електроника

Електроника

По-бързи, по-малки, по-ефективни: напредъкът в микроелектрониката е тясно свързан с лазерната техника.

Постоянната тенденция за миниатюризиране и екстремните количества детайли са две от най-важните особености на електронната промишленост. Чрез непостигнатата досега прецизност и високата възможност за автоматизация лазерната техника предлага индустриални решения за тези предизвикателства. Лазерите на TRUMPF играят основна роля при производството на компютърни чипове от най-ново поколение. В допълнение лазерът позволява изпълнението на множество други стъпки от процеса, като рязане и пробиване на силициеви пакети, печатни платки или цели електронни модули. Освен това генераторите на TRUMPF Hüttinger осигуряват надеждно и прецизно енергията за процесите на нанасяне на покрития и ецване при производството на силициеви пакети.

Полупроводникова промишленост

Laseranwendungen in der Halbleiterindustrie

Лазерите TRUMPF произвеждат повторяеми и висококачествени продукти, които са предназначени за електрониката, включително в много големи количества. Повече от 1000 лазера с ултракъси импулси от TRUMPF работят денонощно 365 дни в годината в производствените предприятия на световните лидери в отрасъла. В зависимост от областта на приложение TRUMPF може да предостави решение под формата на машина или отделни пакети лазерни технологии. И в двата случая клиентите се възползват от международно организираната сервизна мрежа на групата TRUMPF.

Високопроизводителните чипове на бъдещето

TruFlow Laser-Amplifier für EUV-Anwendungen

Появата на микроелектрониката, а с нея и основата на днешните компютри и смартфони, би била немислима без лазерната техника. Логическите чипове и чиповете за съхранение имат структури от порядъка на нанометри и могат да бъдат създадени само чрез сложни процеси на осветяване с лазерно лъчение. Конвенционалният подход с УВ лъчение от ексимерни лазери все повече се доближава до своята граница. По-малките структури в бъдеще ще могат да бъдат генерирани само с по-къси дължини на вълните в екстремния ултравиолетов диапазон (EUV). Заедно с най-големите производители на литографски системи ASML и специалиста в оптиката Zeiss TRUMPF работи в дългогодишно и интензивно сътрудничество по този метод EUV литографията и разработи уникалната в света лазерна система CO2. Поради това за в бъдеще в много високо мощностни чипове ще бъде скрита частичка технология на TRUMPF.

Производство на чипове

Platine mit Chips

Плазмените генератори на TRUMPF Hüttinger играят основна роля и при същинското производство на чипове. Качеството на електрическото захранване определя качеството и прецизността на генерираната плазма. Тази плазма се използва в следващата стъпка за легиране (вкарване на йони), отделяне (PECVD, ALD) или отстраняване (плазмено ецване) на различни материали за производство на полупроводници. По време на този процес се отделят отровни газове в околната среда, които ефективно се чистят от една специална система в генераторите TRUMPF Hüttinger, така че CO2 следата в производството на полупроводници се поддържа възможно най-слаба.

Студено прецизно обработване на чипове, пакети и платки

Лазерно пробиване на платка с помощта на лазер на TruMicro серия 5000.

Следващото предизвикателство за процесната верига в електрониката след осветяването и създаването на веригите върху силициевите пакети е разделянето на отделните чипове. За да се постигнат възможно най-малки фуги на среза и високо качество на ръбовете, както и за да не се повредят чувствителните чипове вследствие на температурното въздействие, при разделянето се използват лазери с ултракъси импулси от TRUMPF. Те позволяват обработка на материала без нежелано топлинно въздействие и най-високото ниво на прецизност в лазерното обработване. Тези лазери са подходящи и за изрязване на чувствителни модули (System-in-Package), обработка на платки от няколко материала и пробиването на така наречените Mikro-Vias в силиций и стъкло. Освен това отрасълът използва лазери от TRUMPF за целенасочено снемане на слоеве, рязане на фолио и надписване.

Отглеждане на кристали

Зона Floating Process

Производството на синтетични кристали е основата на производството на полупроводници, а с това и основата на цялата комуникационна и медийна техника. При него монокристални слоеве растат върху монокристални субстрати от същия материал, като кристалографският ред се запазва. Наред с други приложения, методът се използва при производството на светодиоди. Индукционните генератори TRUMPF Hüttinger позволяват хомогенно и стабилно разпределение на температурата чрез бързо и прецизно регулиране на изходящите величини.

Контакт
Сервиз и контакти