Funktionsprinzip der EUV-Lithografie.
TRUMPF liefert seit Anfang 2014 die dritte Generation seiner Lasersysteme an ASML in den Niederlanden, den einzigen Hersteller von EUV-Lithografieanlagen weltweit.
Der TRUMPF Laser Amplifier basiert auf der Technologie der CO2-Dauerstichlaser im Leistungsbereich von über zehn Kilowatt. Es verstärkt einen CO2-Laserpuls mit wenigen Watt mittlerer Leistung in fünf Verstärkerstufen um mehr als das 10.000-fache auf über 30 Kilowatt mittlere Pulsleistung, wobei die Pulsspitzenleistung mehrere Megawatt beträgt.
Athanassios Kaliudis
