Lands-/region- och språkval

Whitepaper Power Electronics

Alla våra Whitepaper finns tillgängliga för nerladdning

- 0 B
Ny spänningsreglering för C&I-lagring som möjliggör en problemlös övergång mellan nätanslutning och ödrift
Om ett batterilagringssystem har förmågan att bilda och driva lokala nät utöver nätansluten drift har ägaren avgörande fördelar i form av ökad motståndskraft, robusthet och säkerhet. Till detta hör i synnerhet att driften genast fortsätter i händelse av ett fel i försörjningsnätet.
PDF - 1 MB
DC Coupling: Den effektiva vägen
När kostnaden för energilagring minskar, blir PV-kopplade lagringsanvändningar alltmer attraktiva för ett brett spektrum av användningar.
PDF - 343 KB
Enstegs-trepunkts-växelriktare
Kostnads- och energieffektiviteten för växelströmskopplade batterisystem beror på den kraftelektronik som behövs för att ansluta batteriet till elnätet. Den här artikeln diskuterar krav och beroende för en enskiktsmetod som kan spara kostnader och öka systemets effektivitet.
PDF - 715 KB
Formen är viktig: Bipolär sputtering
Den här artikeln presenterar två kännetecken hos bipolär strömförsörjning: (i) ett brett pulsfrekvensområde på upp till 100 kHz och (ii) en extra brake time mellan den positiva och negativa halvvågen för den rektangulära vågformen av ström och spänning.
PDF - 941 KB
Sinus eller rektangel
Sedan introduktionen av dubbel magnetronsputtering (DMS) för högisolerande skikt har det funnits ett val mellan square wave pulse och sine wave strömförsörjning.
PDF - 567 KB
Auto Frequency Tuning
En motåtgärd mot snabba fluktuationer i plasmans impedansområde är automatisk frekvensinställning, där RF-generatorn justerar sin grundfrekvens till ett frekvensvärde med bättre anpassning inom en tidsram på mindre än en millisekund.
PDF - 2 MB
Ny pulsad likströmsteknologi
Likströms- och pulsad likströmssputtering är en av de mest använda sputteringsteknikerna inom industrisektorn. Introduktionen av pulsad likströmsteknologi möjliggjorde massproduktion av beläggningar från icke-ledande förbindelser skapade av reaktiv magnetronsputtering.
PDF - 1 MB
Spänningsreglerat Transition Mode
Reaktiv sputtering är en mycket framgångsrik metod inom modern industri för att producera isolerande beläggningar och hårda beläggningar. Jämfört med förångning erbjuder sputtering fördelarna med jonassisterad beläggning, vilket gör den attraktiv för industrin trots höga anläggnings- och elkostnader.
PDF - 2 MB
Båghantering
Bildandet av bågar vid MF-magnetronförstoftning: Ett välkänt problem vid reaktiv magnetronförstoftning är bågbildning vid katoderna.
PDF - 864 KB
LDMOS
Den här artikeln diskuterar effekterna av prestandakombinerande strukturer på högfrekvens- och termisk prestanda hos högfrekvens-förstärkare med hög prestanda under inkongruensförhållanden. 
PDF - 425 KB
HiPIMS - nya möjligheter för industrin
High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS) är den mest aktuella PVD-processen (Physical Vapour Deposition) som är tillgänglig för industrin.
PDF - 1 MB
PEALD-teknologi, radiofrekvenssignalgenerator och matchnätverk
Atomic Layer Deposition (ALD) är en process där en mängd olika tunnfilmsmaterial avsätts från en ångfas. En mycket tunn film av atomskikt byggs upp i flera beläggningscykler.
PDF - 3 MB
Användning av pulsad DC-sputtering
Ett av de mest intressanta resorptionsmaterialen för solceller är koppar-indium-selenid (CIS)-baserade material, vars egenskaper kan ändras genom att ersätta en del av indiumet med gallium för att bilda Cu(In,Ga)Se2, känt som CIGS.
PDF - 2 MB
Precision i bearbetningen
Kontinuerliga förbättringar av halvledartillverkningsprocesser är en förutsättning för att säkerställa en konstant reduktion av storleken. Detta kräver i sin tur RF-generatorer som levererar allt högre signalkvalitet vad gäller uteffekt och tidsupplösning.
PDF - 712 KB
Likström för motståndsvärmning i exakta MOCVD-processer
Metal Organic Chemical Vapor Phase Deposition (MOCVD) är en mycket komplex process för tillväxt av kristallina skikt. MOCVD används t.ex. vid tillverkning av lysdioder (LED), lasrar, transistorer, solceller och andra elektroniska och opto-elektroniska komponenter och är nyckelteknologin för framtida marknader med hög tillväxtpotential. TruHeat likström 3000 är den perfekta kandidaten för dessa användningar.
PDF - 1 MB
Induktiv uppvärmning - användningar och utmaningar för halvledarindustrin
TRUMPF Hüttinger erbjuder ett brett utbud av processströmförsörjning, omkretsar, induktorer och tillbehör som redan används framgångsrikt för kristalltillväxt och epitaxiprocesser av ett antal nyckelaktörer inom SiC- och GaN-industrin.
PDF - 1 MB
Mycket effektiv och innovativ GaN-generator i 2,45 GHz ISM-bandet för högteknologiska mikrovågsanvändningar
Det främsta hindret och den största nackdelen vid industrialiseringen av mikrovågsprocesser har hittills varit bristen på "möjligheter". Hittills har endast mekaniskt rörliga komponenter såsom roterande plattor, omrörare etc. funnits tillgängliga för att påverka uppvärmningsprocessens homogenitet och för att möjliggöra målinriktad temperaturfördelning och en reproducerbar uppvärmningsprocess.
PDF - 2 MB
Mångsidig och effektiv halvledareffektförstärkararkitektur
Transistorbaserade effektförstärkare för användning i partikelacceleratorer kräver hög effekt. På grund av den begränsade effekten hos en enskild transistor kräver målanvändningen en kombination av ett flertal transistorer. Dessutom efterfrågar marknaden förstärkarsystem med olika frekvenser och effektklasser. För att täcka detta så bra som möjligt med en liknande systemarkitektur har vi utvecklat plattformen TruAccelerate.
PDF - 3 MB
Fasta tillståndets effektförstärkarsystem för partikelacceleratorer med unik hot-swap-funktion som tål full returstrålning
I denna Whitepaper presenterar vi en hot-swap-teknologi som gör det möjligt att ersätta enskilda trasiga effektförstärkarmoduler under drift under ambitiösa reflektionskrav. Särskild uppmärksamhet måste ägnas åt kombinerarens arkitektur och modulernas kontrollerade isolering.
PDF - 3 MB
Meantime Between Failures (MTBF) och antal misslyckanden (AFR) per år från en storskalig installation av solid-state effektförstärkare
Tillgängligheten av partikelacceleratorer är en avgörande faktor. På grund av den komplexa teknologin kräver identifieringen av individuella felorsaker och en tillförlitlig felbedömning en noggrann tillgänglighetsbedömning.
Kontakt
TRUMPF Hüttinger
Fax +49 761 89711150
E-post
Kontakt bei TRUMPF Hüttinger:
Service och kontakt