Lands-/region- och språkval
Produkter
Översikt Produkter
Maskiner & system
Översikt Maskiner & system
2D-laserskärmaskiner
3D-laserskärmaskiner
Lasersvetsmaskiner och ljusbågssvetscell
Rörlaserskärmaskiner
Märklasersystem
Additiva tillverkningssystem
Stansmaskiner
Stans-/lasermaskiner
Kantpressar
Lagersystem
Automatisering
Laser
Översikt Laser
Laserstrålkällor
Översikt Laserstrålkällor
Efter användning
Laser för svetsning
Laser för skärning
Laser för märkning
Laser för ytbearbetning
Laser för mikrobearbetning
Forskningslasrar
Efter teknologi
cw-laser
Kortpulslaser
Ultrakortpulslaser
Sensorsystem
Översikt Sensorsystem
Bildbehandling skär-/ svetstillämpning
Bildbehandling för märkning
3D-egenskapsidentifiering
VisionLine OCT Check
Melt travel monitor
Kalibrering
Bearbetningsoptiker
Översikt Bearbetningsoptiker
Fokuseringsoptik
Programmerbar fokuseringsoptik
Serien TOP
Kraftelektronik
Översikt Kraftelektronik
Plasmageneratorer
Växelriktare
Generatorer för industriell uppvärmning
Mikrovågsförstärkare
TRUMPF Hüttinger Whitepaper
Elverktyg
Översikt Elverktyg
Batterimaskiner
Spårsaxar
Saxar
Nibblingsmaskiner
Profilnibblingsmaskiner
Panel Cutter
Falsstängare
Fogpress
Kantfräsar
Svetskantformare
Rasterrensare
Detaljseparator
Tube Cutter
Mjukvara
Översikt Mjukvara
Oseon
Programmeringssystem
Tjänster
Lösningar
Översikt Lösningar
Smart Factory
Smart Factory Consulting
Applikationer
Översikt Applikationer
Bockning
EUV-litografi
Induktionsuppvärmning
Kantformer
Lasermärkning
Laserskärning
Lasersvetsning
Ljusbågsvetsning
Mikrobearbetning
Ytbearbetning med laser
Plasmateknik
Stansning och nibbling
Klippning
Sammanfoga
Branscher
Översikt Branscher
Bil
Byggindustrin
Plåtbearbetning
Display
Elektronik
Energi- och ventilationsteknik
Luft- och rymdfart
Maskin- och systembyggare
Medicinteknik
Nyttofordon och transport
Solceller
Klock- och smyckesindustrin
Tillverkning av gjut- och formverktyg
Framgångsberättelser
Fördelar TRUMPF maskiner
Översikt Fördelar TRUMPF maskiner
Fördelar 2D-laserskärmaskiner
Fördelar bockmaskiner
Fördelar stansmaskiner
Fördelar stans-/lasermaskiner
Fördelar med rörlaserskärningsmaskiner
Fördelar robotsvetsceller
Företag
Översikt Företag
Profil
Översikt Profil
Om oss
Styrelse
Tillsynsorgan
Årsrapport
Placeringsorter
Principer
Översikt Principer
Företagsprinciper
Kvalitet
SYNCHRO
Leverantörer
Evenemang och tider
Historik
Översikt Historik
Epoken 2020–idag
Epoken 2013-2019
Epoken 2005-2012
Epoken 1996-2004
Epoken 1985-1995
Epoken 1978-1984
Epoken 1967-1977
Epoken 1960-1966
Epoken 1950-1959
Epoken 1934-1949
Epoken 1923-1933
Andra verksamhetsområden
Översikt Andra verksamhetsområden
Fler företag i TRUMPF Gruppe
Financial Services
TRUMPF Venture
Hållbarhet
Översikt Hållbarhet
Miljö och klimat
Översikt Miljö och klimat
Klimatskydd på våra verksamhetsorter
Producera hållbart med TRUMPF
Socialt och samhälle
Översikt Socialt och samhälle
Medarbetare
Socialt engagemang
Utbildning och forskning
Konst och kultur
Företagsmanagement
Översikt Företagsmanagement
Compliance
Datasäkerhet
Newsroom
Karriär
Översikt Karriär
Lediga tjänster
Så här ansöker du
TRUMPF som arbetsgivare
Översikt TRUMPF som arbetsgivare
TRUMPF som arbetsgivare
Fördelar och erbjudanden globalt
Mångfald
Utvecklingsmöjligheter
Internationellt arbete
Yrkeserfarna
Högskoleutbildad
Studerande
Elev
Människorna hos TRUMPF
Sökning
Kontakt
Sverige | SV
Till MyTRUMPF
Produkter
Kraftelektronik
Plasmageneratorer
Växelriktare
Generatorer för industriell uppvärmning
Mikrovågsförstärkare
TRUMPF Hüttinger Whitepaper
Sverige | SV
Kontakt
Till MyTRUMPF
Whitepaper Power Electronics
Alla våra Whitepaper finns tillgängliga för nerladdning
PDF - 1 MB
Likström för motståndsvärmning i exakta MOCVD-processer
Metal Organic Chemical Vapor Phase Deposition (MOCVD) är en mycket komplex process för tillväxt av kristallina skikt. MOCVD används t.ex. vid tillverkning av lysdioder (LED), lasrar, transistorer, solceller och andra elektroniska och opto-elektroniska komponenter och är nyckelteknologin för framtida marknader med hög tillväxtpotential. TruHeat likström 3000 är den perfekta kandidaten för dessa användningar.
PDF - 808 KB
Induktiv uppvärmning - användningar och utmaningar för halvledarindustrin
TRUMPF Hüttinger erbjuder ett brett utbud av processströmförsörjning, omkretsar, induktorer och tillbehör som redan används framgångsrikt för kristalltillväxt och epitaxiprocesser av ett antal nyckelaktörer inom SiC- och GaN-industrin.
PDF - 424 KB
Enhancing SiC and GaN Production Efficiency with TRUMPF Huettinger Power Supplies
This paper focuses on strategies to reduce operational and capital expenditures while improving quality in SiC/GaN production processes, and provides an in-depth look at various heating methods used in SiC/GaN manufacturing, including microwave, RF dielectric, DC resistive, and induction heating.
Begär vitbok
PDF - 814 KB
Mångsidig och effektiv halvledareffektförstärkararkitektur
Transistorbaserade effektförstärkare för användning i partikelacceleratorer kräver hög effekt. På grund av den begränsade effekten hos en enskild transistor kräver målanvändningen en kombination av ett flertal transistorer. Dessutom efterfrågar marknaden förstärkarsystem med olika frekvenser och effektklasser. För att täcka detta så bra som möjligt med en liknande systemarkitektur har vi utvecklat plattformen TruAccelerate.
PDF - 1 MB
Meantime Between Failures (MTBF) och antal misslyckanden (AFR) per år från en storskalig installation av solid-state effektförstärkare
Tillgängligheten av partikelacceleratorer är en avgörande faktor. På grund av den komplexa teknologin kräver identifieringen av individuella felorsaker och en tillförlitlig felbedömning en noggrann tillgänglighetsbedömning.
PDF - 953 KB
Fasta tillståndets effektförstärkarsystem för partikelacceleratorer med unik hot-swap-funktion som tål full returstrålning
I denna Whitepaper presenterar vi en hot-swap-teknologi som gör det möjligt att ersätta enskilda trasiga effektförstärkarmoduler under drift under ambitiösa reflektionskrav. Särskild uppmärksamhet måste ägnas åt kombinerarens arkitektur och modulernas kontrollerade isolering.
Begär vitbok
PDF - 683 KB
Formen är viktig: Bipolär sputtering
Den här artikeln presenterar två kännetecken hos bipolär strömförsörjning: (i) ett brett pulsfrekvensområde på upp till 100 kHz och (ii) en extra brake time mellan den positiva och negativa halvvågen för den rektangulära vågformen av ström och spänning.
PDF - 942 KB
Sinus eller rektangel
Sedan introduktionen av dubbel magnetronsputtering (DMS) för högisolerande skikt har det funnits ett val mellan square wave pulse och sine wave strömförsörjning.
PDF - 806 KB
Auto Frequency Tuning
En motåtgärd mot snabba fluktuationer i plasmans impedansområde är automatisk frekvensinställning, där RF-generatorn justerar sin grundfrekvens till ett frekvensvärde med bättre anpassning inom en tidsram på mindre än en millisekund.
PDF - 560 KB
Ny pulsad likströmsteknologi
Likströms- och pulsad likströmssputtering är en av de mest använda sputteringsteknikerna inom industrisektorn. Introduktionen av pulsad likströmsteknologi möjliggjorde massproduktion av beläggningar från icke-ledande förbindelser skapade av reaktiv magnetronsputtering.
PDF - 579 KB
Spänningsreglerat Transition Mode
Reaktiv sputtering är en mycket framgångsrik metod inom modern industri för att producera isolerande beläggningar och hårda beläggningar. Jämfört med förångning erbjuder sputtering fördelarna med jonassisterad beläggning, vilket gör den attraktiv för industrin trots höga anläggnings- och elkostnader.
PDF - 1,006 KB
Båghantering
Bildandet av bågar vid MF-magnetronförstoftning: Ett välkänt problem vid reaktiv magnetronförstoftning är bågbildning vid katoderna.
PDF - 774 KB
LDMOS
Den här artikeln diskuterar effekterna av prestandakombinerande strukturer på högfrekvens- och termisk prestanda hos högfrekvens-förstärkare med hög prestanda under inkongruensförhållanden.
PDF - 772 KB
HiPIMS - nya möjligheter för industrin
High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS) är den mest aktuella PVD-processen (Physical Vapour Deposition) som är tillgänglig för industrin.
PDF - 649 KB
PEALD-teknologi, radiofrekvenssignalgenerator och matchnätverk
Atomic Layer Deposition (ALD) är en process där en mängd olika tunnfilmsmaterial avsätts från en ångfas. En mycket tunn film av atomskikt byggs upp i flera beläggningscykler.
PDF - 813 KB
Användning av pulsad DC-sputtering
Ett av de mest intressanta resorptionsmaterialen för solceller är koppar-indium-selenid (CIS)-baserade material, vars egenskaper kan ändras genom att ersätta en del av indiumet med gallium för att bilda Cu(In,Ga)Se2, känt som CIGS.
PDF - 845 KB
Precision i bearbetningen
Kontinuerliga förbättringar av halvledartillverkningsprocesser är en förutsättning för att säkerställa en konstant reduktion av storleken. Detta kräver i sin tur RF-generatorer som levererar allt högre signalkvalitet vad gäller uteffekt och tidsupplösning.
PDF - 2 MB
Effect of Ignition Voltage on HIPIMS Discharge
Ignition voltage controls HIPIMS ignition speed and pulse shape: higher voltages shorten the formative current lag and convert triangular current pulses into more rectangular profiles, increasing per‑pulse energy. This paper quantifies these effects using electrical waveforms and optical emission spectroscopy, and discusses implications for stable constant‑current operation, deposition rate, and coating quality.
Begär vitbok
PDF - 953 KB
Ny spänningsreglering för C&I-lagring som möjliggör en problemlös övergång mellan nätanslutning och ödrift
Om ett batterilagringssystem har förmågan att bilda och driva lokala nät utöver nätansluten drift har ägaren avgörande fördelar i form av ökad motståndskraft, robusthet och säkerhet. Till detta hör i synnerhet att driften genast fortsätter i händelse av ett fel i försörjningsnätet.
PDF - 483 KB
DC Coupling: Den effektiva vägen
När kostnaden för energilagring minskar, blir PV-kopplade lagringsanvändningar alltmer attraktiva för ett brett spektrum av användningar.
PDF - 463 KB
Enstegs-trepunkts-växelriktare
Kostnads- och energieffektiviteten för växelströmskopplade batterisystem beror på den kraftelektronik som behövs för att ansluta batteriet till elnätet. Den här artikeln diskuterar krav och beroende för en enskiktsmetod som kan spara kostnader och öka systemets effektivitet.
Begär vitbok
PDF - 1 MB
Mycket effektiv och innovativ GaN-generator i 2,45 GHz ISM-bandet för högteknologiska mikrovågsanvändningar
Det främsta hindret och den största nackdelen vid industrialiseringen av mikrovågsprocesser har hittills varit bristen på "möjligheter". Hittills har endast mekaniskt rörliga komponenter såsom roterande plattor, omrörare etc. funnits tillgängliga för att påverka uppvärmningsprocessens homogenitet och för att möjliggöra målinriktad temperaturfördelning och en reproducerbar uppvärmningsprocess.
Begär vitbok
Kontakt
TRUMPF Hüttinger
Telefon +49 761 89710
Fax +49 761 89711150
E-post
Contact at TRUMPF Hüttinger:
Worldwide