Metal Organic Chemical Vapor Phase Deposition (MOCVD) är en mycket komplex process för tillväxt av kristallina skikt. MOCVD används t.ex. vid tillverkning av lysdioder (LED), lasrar, transistorer, solceller och andra elektroniska och opto-elektroniska komponenter och är nyckelteknologin för framtida marknader med hög tillväxtpotential. TruHeat likström 3000 är den perfekta kandidaten för dessa användningar.

TRUMPF Hüttinger erbjuder ett brett utbud av processströmförsörjning, omkretsar, induktorer och tillbehör som redan används framgångsrikt för kristalltillväxt och epitaxiprocesser av ett antal nyckelaktörer inom SiC- och GaN-industrin.

This paper focuses on strategies to reduce operational and capital expenditures while improving quality in SiC/GaN production processes, and provides an in-depth look at various heating methods used in SiC/GaN manufacturing, including microwave, RF dielectric, DC resistive, and induction heating.