Lands-/region- och språkval
PDF - 683 KB
Formen är viktig: Bipolär sputtering
Den här artikeln presenterar två kännetecken hos bipolär strömförsörjning: (i) ett brett pulsfrekvensområde på upp till 100 kHz och (ii) en extra brake time mellan den positiva och negativa halvvågen för den rektangulära vågformen av ström och spänning.
PDF - 942 KB
Sinus eller rektangel
Sedan introduktionen av dubbel magnetronsputtering (DMS) för högisolerande skikt har det funnits ett val mellan square wave pulse och sine wave strömförsörjning.
PDF - 806 KB
Auto Frequency Tuning
En motåtgärd mot snabba fluktuationer i plasmans impedansområde är automatisk frekvensinställning, där RF-generatorn justerar sin grundfrekvens till ett frekvensvärde med bättre anpassning inom en tidsram på mindre än en millisekund.
PDF - 560 KB
Ny pulsad likströmsteknologi
Likströms- och pulsad likströmssputtering är en av de mest använda sputteringsteknikerna inom industrisektorn. Introduktionen av pulsad likströmsteknologi möjliggjorde massproduktion av beläggningar från icke-ledande förbindelser skapade av reaktiv magnetronsputtering.
PDF - 579 KB
Spänningsreglerat Transition Mode
Reaktiv sputtering är en mycket framgångsrik metod inom modern industri för att producera isolerande beläggningar och hårda beläggningar. Jämfört med förångning erbjuder sputtering fördelarna med jonassisterad beläggning, vilket gör den attraktiv för industrin trots höga anläggnings- och elkostnader.
PDF - 1,006 KB
Båghantering
Bildandet av bågar vid MF-magnetronförstoftning: Ett välkänt problem vid reaktiv magnetronförstoftning är bågbildning vid katoderna.
PDF - 774 KB
LDMOS
Den här artikeln diskuterar effekterna av prestandakombinerande strukturer på högfrekvens- och termisk prestanda hos högfrekvens-förstärkare med hög prestanda under inkongruensförhållanden. 
PDF - 772 KB
HiPIMS - nya möjligheter för industrin
High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS) är den mest aktuella PVD-processen (Physical Vapour Deposition) som är tillgänglig för industrin.
PDF - 649 KB
PEALD-teknologi, radiofrekvenssignalgenerator och matchnätverk
Atomic Layer Deposition (ALD) är en process där en mängd olika tunnfilmsmaterial avsätts från en ångfas. En mycket tunn film av atomskikt byggs upp i flera beläggningscykler.
PDF - 813 KB
Användning av pulsad DC-sputtering
Ett av de mest intressanta resorptionsmaterialen för solceller är koppar-indium-selenid (CIS)-baserade material, vars egenskaper kan ändras genom att ersätta en del av indiumet med gallium för att bilda Cu(In,Ga)Se2, känt som CIGS.
PDF - 845 KB
Precision i bearbetningen
Kontinuerliga förbättringar av halvledartillverkningsprocesser är en förutsättning för att säkerställa en konstant reduktion av storleken. Detta kräver i sin tur RF-generatorer som levererar allt högre signalkvalitet vad gäller uteffekt och tidsupplösning.
PDF - 2 MB
Effect of Ignition Voltage on HIPIMS Discharge
Ignition voltage controls HIPIMS ignition speed and pulse shape: higher voltages shorten the formative current lag and convert triangular current pulses into more rectangular profiles, increasing per‑pulse energy. This paper quantifies these effects using electrical waveforms and optical emission spectroscopy, and discusses implications for stable constant‑current operation, deposition rate, and coating quality.