I mediernas spegel: EUV-litografi

Denna rapport i Handelsblatt baseras på den av TRUMPF, Zeisss och ASML gemensamt genomförda pressresan i maj 2019. Författarna belyser samarbetet mellan parterna, beskriver utvecklingen av EUV och ger med citat, bland annat från Peter Leibinger, Chief Technology Officer hos TRUMPF, inblick i potentialen för framtidsteknologin.

Källa: Handelsblatt
Författare: Martin-W. Buchenau, Joachim Hofer
Utgivningsdatum: 05/2019
Länk: till artikeln

&nbspNews auf optics.org rapporterar att trots tilltagande, makroekononomiska osäkerheter är efterfrågan på litografisystem från ASML konstant. Nyckelkunder som Samsung och TSMC tillkännager sina planer på att använda EUV-system i den framtida produktionen av chips. Dessa behövs omgående för nya tillämpningar inom 5G, artificiell intelligens, högpresterande datorsystem och bilindustrin – något som Charlie Bae från Samsung har prognosticerat sedan länge.

Källa: www.optics.org
Författare: N.N.
Utgivningsdatum: 04/2019
Länk: till artikeln

I den här artikeln på Golem.de rapporterar författaren Marc Sauter att Samsung Foundry har slutfört utvecklingen av 5-nm-metoden med extrem ultraviolett strålning (EUV) och att man från och med nu tar emot order från kunder. Med den nya metoden kan transistordensiteten ökas med 25 % och samtidigt uppvisar chipsen en 20 % lägre effektförbrukning alternativt 10 % högre datorkapacitet.

Källa: www.golem.de
Författare: Marc Sauter
Utgivningsdatum: 04/2019
Länk: till artikeln

I den här artikeln rapporterar Heise.de att Samsung startade produktionen i den första 7-nm-fabriken hösten 2018 och att man där exponerar wafer med EUV-litografisystem från ASML. Källa: www.heise.de
Författare: Nico Ernst
Utgivningsdatum: 10/2018
Länk: till artikeln

TRUMPF verksamhetsberättelse 2017/2018 belyser hur kontrollen över ljuset – och därmed även laser och EUV-litografi – bildar fundamenten för framtidsteknologier som artificiell intelligens, autonom körning och uppkopplade fabriker.

Källa: TRUMPF verksamhetsberättelse GJ 2017/2018
Författare: TRUMPF GmbH + Co. KG
Utgivningsdatum: 10/2018
Länk: till artikeln

Artikeln på golem.de tillkännager att ASML avsevärt har förbättrat sina NXW:3400B-system så att kostnads- och tidseffektiv serieproduktion med extrem ultraviolett strålning ligger inom räckhåll. Källa: www.golem.de
Författare: Marc Sauter
Utgivningsdatum: 07/2018
Länk: till artikeln

I den här artikeln följer LaserFocusWorld den mer än tjugo år långa utvecklingen av EU-teknologin och beskriver de många hindren och utmaningarna som måste klaras av innan genombrottet 2015.

Källa: LaserFocusWorld
Författare: Andreas Thoss
Utgivningsdatum: 11/2017
Länk: till artikeln

Den här rapporten i facktidsskriften "Produktion" berättar att TRUMPF tar över majoriteten i Access. Som tillverkare av Low-Power-CO₂-lasrar är Access Laser en av TRUMPFs viktigaste partner inom EUV. Källa: www.optics.org
Författare: N.N.
Utgivningsdatum: 10/2017
Länk: till artikeln

Stuttgarter Zeitung rapporterar hur TRUMPF går in i halvledarindustrin som leverantör av sin Laser Amplifier och att de har grundat ett nytt dotterbolag för verksamheten. Källa: Stuttgarter Zeitung
Författare: Michael Heller
Utgivningsdatum: 05/2017
Länk: till artikeln

Artikeln i veckomagasinet för elektronik "Markt&Technik" sammanfattar aktuella och planerade omsättnings- och försäljningssiffror från ASML. Dessa visar att EUV-litografi slutligen har anlänt till industrin. Källa: Markt&Technik
Författare: Heinz Arnold
Utgivningsdatum: 07/2017
Länk: till artikeln