Lands-/region- och språkval

I mediernas spegel: EUV-litografi

Den extrem-ultravioletta strålningen (EUV) för exponering av wafer är utan tvekan framtidstemat i chipindustrin. Det är inte förvånande att inte bara fackpressen utan även den publika pressen regelbundet tar upp ämnet och följer teknologins utveckling. En sammanställning av några nationella och internationella Highlight-artiklar finns på den här sidan.

ASML's EUV systems pattern new Samsung and TSMC chips

&nbspNews auf optics.org rapporterar att trots tilltagande, makroekononomiska osäkerheter är efterfrågan på litografisystem från ASML konstant. Nyckelkunder som Samsung och TSMC tillkännager sina planer på att använda EUV-system i den framtida produktionen av chips. Dessa behövs omgående för nya tillämpningar inom 5G, artificiell intelligens, högpresterande datorsystem och bilindustrin – något som Charlie Bae från Samsung har prognosticerat sedan länge.

Källa: www.optics.org
Författare: N.N.
Utgivningsdatum: 04/2019
Länk: till artikeln

Samsungs 5-nm-EUV-Prozess ist bereit

I den här artikeln på Golem.de rapporterar författaren Marc Sauter att Samsung Foundry har slutfört utvecklingen av 5-nm-metoden med extrem ultraviolett strålning (EUV) och att man från och med nu tar emot order från kunder. Med den nya metoden kan transistordensiteten ökas med 25 % och samtidigt uppvisar chipsen en 20 % lägre effektförbrukning alternativt 10 % högre datorkapacitet.

Källa: www.golem.de
Författare: Marc Sauter
Utgivningsdatum: 04/2019
Länk: till artikeln

Samsung fertigt 7-Nanometer-Chips mit EUV-Belichtern

I den här artikeln rapporterar Heise.de att Samsung startade produktionen i den första 7-nm-fabriken hösten 2018 och att man där exponerar wafer med EUV-litografisystem från ASML. Källa: www.heise.de
Författare: Nico Ernst
Utgivningsdatum: 10/2018
Länk: till artikeln

Verfügbarkeit von EUV-Scannern auf 85 Prozent gesteigert

Artikeln på golem.de tillkännager att ASML avsevärt har förbättrat sina NXW:3400B-system så att kostnads- och tidseffektiv serieproduktion med extrem ultraviolett strålning ligger inom räckhåll. Källa: www.golem.de
Författare: Marc Sauter
Utgivningsdatum: 07/2018
Länk: till artikeln

The secret of EUV generation

I den här artikeln följer LaserFocusWorld den mer än tjugo år långa utvecklingen av EU-teknologin och beskriver de många hindren och utmaningarna som måste klaras av innan genombrottet 2015.

Källa: LaserFocusWorld
Författare: Andreas Thoss
Utgivningsdatum: 11/2017
Länk: till artikeln

TRUMPF consolidates EUV lithography supply chain with Access Laser deal

Den här rapporten i facktidsskriften "Produktion" berättar att TRUMPF tar över majoriteten i Access. Som tillverkare av Low-Power-CO₂-lasrar är Access Laser en av TRUMPFs viktigaste partner inom EUV. Källa: www.optics.org
Författare: N.N.
Utgivningsdatum: 10/2017
Länk: till artikeln

TRUMPF will die Chipindustrie aufmischen

Stuttgarter Zeitung rapporterar hur TRUMPF går in i halvledarindustrin som leverantör av sin Laser Amplifier och att de har grundat ett nytt dotterbolag för verksamheten. Källa: Stuttgarter Zeitung
Författare: Michael Heller
Utgivningsdatum: 05/2017
Länk: till artikeln

Detta kan också vara intressant för dig

TRUMPF Laser Amplifier

TRUMPF Laser Amplifier levererar laserpulser, som är grunden för tillverkning av framtidens mikrochip. Ta reda på mer om det högteknologiska CO₂-lasersystemet.

EUV-litografi

Utan extremt ultraviolett ljus inga moderna datorchips. Vilken roll CO₂högeffektslasersystem från TRUMPF har när det gäller att skapa halvledarstrukturer kan du läsa om här.

Elektronik

Från laserbearbetning till kristallodling: TRUMPF levererar grundteknologin för tillverkning av effektiva halvledare till elektronikbranschen.

Kontakt

TRUMPF Maskin AB

Telefon +46 322 66 97 00

E-post