Lands-/region- och språkval

Torretsning

Strukturering i nanoområdet

Genom att avlägsna material ur tunna skikt genereras strukturer för elektroniska komponenter. Därmed uppstår t.ex. ledande banor på kretskort eller transistorer. Genom att jonisera molekylerna i en processgas bildas joner, som accelereras mot substratytan i plasmans elektriska fält.

Reaktiv jonetsning möjliggör en riktningsselektiv borttagning, vilket är en förutsättning för tillverkning av mikroelektriska komponenter och MEMS (Micro electro-mechanical systems). För exakt styrning av jonflödet och jonenergin används olika generatorer med olika excitationsfrekvenser för att generera biasspänningen. 

Whitepaper

Vi har sammanställt tematiskt intressanta vitböcker åt dig

PDF - 715 KB
Formen är viktig: Bipolär sputtering
Den här artikeln presenterar två kännetecken hos bipolär strömförsörjning: (i) ett brett pulsfrekvensområde på upp till 100 kHz och (ii) en extra brake time mellan den positiva och negativa halvvågen för den rektangulära vågformen av ström och spänning.
PDF - 941 KB
Sinus eller rektangel
Sedan introduktionen av dubbel magnetronsputtering (DMS) för högisolerande skikt har det funnits ett val mellan square wave pulse och sine wave strömförsörjning.
PDF - 567 KB
Auto Frequency Tuning
En motåtgärd mot snabba fluktuationer i plasmans impedansområde är automatisk frekvensinställning, där RF-generatorn justerar sin grundfrekvens till ett frekvensvärde med bättre anpassning inom en tidsram på mindre än en millisekund.
PDF - 2 MB
Ny pulsad likströmsteknologi
Likströms- och pulsad likströmssputtering är en av de mest använda sputteringsteknikerna inom industrisektorn. Introduktionen av pulsad likströmsteknologi möjliggjorde massproduktion av beläggningar från icke-ledande förbindelser skapade av reaktiv magnetronsputtering.
PDF - 1 MB
Spänningsreglerat Transition Mode
Reaktiv sputtering är en mycket framgångsrik metod inom modern industri för att producera isolerande beläggningar och hårda beläggningar. Jämfört med förångning erbjuder sputtering fördelarna med jonassisterad beläggning, vilket gör den attraktiv för industrin trots höga anläggnings- och elkostnader.
PDF - 2 MB
Båghantering
Bildandet av bågar vid MF-magnetronförstoftning: Ett välkänt problem vid reaktiv magnetronförstoftning är bågbildning vid katoderna.
PDF - 864 KB
LDMOS
Den här artikeln diskuterar effekterna av prestandakombinerande strukturer på högfrekvens- och termisk prestanda hos högfrekvens-förstärkare med hög prestanda under inkongruensförhållanden. 
PDF - 425 KB
HiPIMS - nya möjligheter för industrin
High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS) är den mest aktuella PVD-processen (Physical Vapour Deposition) som är tillgänglig för industrin.
PDF - 1 MB
PEALD-teknologi, radiofrekvenssignalgenerator och matchnätverk
Atomic Layer Deposition (ALD) är en process där en mängd olika tunnfilmsmaterial avsätts från en ångfas. En mycket tunn film av atomskikt byggs upp i flera beläggningscykler.
PDF - 3 MB
Användning av pulsad DC-sputtering
Ett av de mest intressanta resorptionsmaterialen för solceller är koppar-indium-selenid (CIS)-baserade material, vars egenskaper kan ändras genom att ersätta en del av indiumet med gallium för att bilda Cu(In,Ga)Se2, känt som CIGS.
PDF - 2 MB
Precision i bearbetningen
Kontinuerliga förbättringar av halvledartillverkningsprocesser är en förutsättning för att säkerställa en konstant reduktion av storleken. Detta kräver i sin tur RF-generatorer som levererar allt högre signalkvalitet vad gäller uteffekt och tidsupplösning.
Kontakt
Dr. Jan Peter Engelstädter
Plasma MF
E-post
Service och kontakt