Celistvé RF systémové riešenie
Nové adaptačné sieťové systémy TruPlasma Match Série 1000 (G2/13) predstavujú ideálny doplnok k VF generátorom firmy TRUMPF Hüttinger. Vďaka inteligentnému algoritmu párovania a digitálnej platforme riadenia na sledovanie procesu vzniká komplexné riešenie, v ktorom spolu optimálne pôsobia všetky komponenty – TRUMPF RF systém.
Rýchle, stabilné a opakovateľné nastavenie impedancie na 50 Ohm dokonca aj v kritických procesoch.
Pokrokový softvér a vylepšená komunikácia medzi generátorom a adaptačným sieťovým systémom.
Rýchle sledovanie systému pri každej zmene impedancie adaptačného sieťového systému a záťaže.
Optimálne sledovanie parametrov procesu ako aj včasné rozpoznanie Arc.
Grafická ovládacia plocha a efektívne nástroje (Smithov diagram, osciloskop v reálnom čase).
Výroba polovodičov, solárnych článkov a plochých obrazoviek
Pri výrobe polovodičov, solárnych článkov a plochých obrazoviek sú rozhodujúce stabilné procesy plazmy. V kombinácii s VF generátormi firmy TRUMPF Hüttinger ponúkajú adaptačné sieťové systém TruPlasma Match Série 1000 (G2/13) komplexné riešenie pre najvyššiu stabilitu procesu a produktivitu.
Nanášanie vrstiev vytvrdzujúcich povrch a vrstiev chrániacich pred opotrebením
Po nanesení funkčných vrstiev získajú nadmerne namáhané obrobky zvýšenú mechanickú tvrdosť ako aj lepšiu tepelnú a chemickú stabilitu. Adaptačné sieťové systémy zariadenia TruPlasma Match Série 1000 (G2/13) zabezpečujú v spolupráci s VF generátorom firmy TRUMPF Hüttinger perfektnú kvalitu nanesenej vrstvy.
Úber a povlakovanie povrchov materiálu
Adaptačné sieťové systémy zariadenia TruPlasma Match Série 1000 (G2/13) je možné použiť vo všetkých bežných procesoch plazmy na nanášanie vrstiev a úber materiálu z povrchov – napríklad pri leptaní plazmou, reaktívnom ionovom leptaní, ALD, PECVD, RF pokovovaní rozprašovaním alebo fotolak-plazmovom spopolnení. V spolupráci s VF generátorom firmy TRUMPF Hüttinger sa pritom dosahujú optimálne výsledky procesu.
Perfektná kontrola procesu v ktorúkoľvek dobu
Matchbox neustále prispieva k rýchlejšiemu a priamemu nastaveniu impedancie na 50 Ohm – tým je zaručené stále plné podávanie výkonu VF generátora do procesu. Komunikácia medzi adaptačným sieťovým systémom a generátorom umožňuje optimálne sledovanie procesu a včasné rozpoznanie Arc.
Prehľad všetkých parametrov
Meranie VF vstupného a výstupného výkonu v reálnom čase signalizuje dynamické zmeny impedancie, snímače chladenia umožňujú spoľahlivé predpovedanie stratového výkonu. Vďaka grafickému ovládaciemu softvéru s komplexnými možnosťami zobrazovania (smithova tabuľka, osciloskop v reálnom čase) máte stále prehľad o všetkých podstatných parametroch procesu.
TRUMPF SystemPort
SystemPort umožňuje uzatvorený regulačný okruh pomocou merania RF signálu priamo na vstupe a výstupe adaptačného sieťového systému. RF generátor má k dispozícii všetky namerané hodnoty. Vďaka tomu môžete lepšie sledovať parametre procesu, chrániť adaptačný sieťový systém a zaručiť včasné rozpoznanie Arc. Kompletný RF systém je teda možné riadiť prostredníctvom jednotlivých prípojok generátora.
Vysoko presné AC meranie prúdu na detekciu anomálií plazmy, umiestnené v adaptačnom sieťovom systéme blízko procesu, priamo na komore.
Na želanie sú k dispozícii doplnkové rozhrania ako Analóg/Digitál, PROFIBUS a EtherCAT. Štandardom je EtherNet, SystemPort a RS232/485.
Premyslený Arc manažment je ideálnym modulom pre najlepšiu kontrolu procesov plazmy. Cielené rozpoznanie Arc garantuje najvyššiu možnú produktivitu a zároveň chráni produkt a zariadenie.
Grafický ovládací softvér
Komplexné grafické zobrazenia umožňujú rozsiahlu kontrolu všetkých podstatných parametrov procesu. Impedancia záťaže a adaptačného sieťového systému sa zobrazuje prostredníctvom smithovho diagramu, VF vstupný a výstupný výkon vrátane polohy frekvencie a fázy pomocou osciloskopu reálneho času.
TruControl Power
Riadiaci softvér TruControl Power príjemný na obsluhu umožňuje komfortné uvedenie do prevádzky a bezpečné sledovanie VF generátora resp. celého TRUMPF RF systému počas priebehu procesu.
Komplexné grafické zobrazenia umožňujú rozsiahlu kontrolu všetkých podstatných parametrov procesu. Impedancia záťaže a adaptačného sieťového systému sa zobrazuje prostredníctvom smithovho diagramu, VF vstupného a výstupného výkonu vrátane uloženia frekvencie a fázy pomocou osciloskopu reálneho času.
Pomocou hlavných oscilátorov je možné stabilizovať a optimalizovať kritické synchrónne procesy plazmy. Integrovaný digitálny frekvenčný a fázový syntetizátor prispieva k vysokej stabilite frekvencie a fáz a umožňuje nastavenie dĺžky fáz po veľmi malých krokoch. Možné je zvoliť z rôznych verzií hlavných oscilátorov pre frekvenciu 13,56 MHz ako aj rôzne kombinácie frekvencií.
Na prenos VF výkonu ponúka TRUMPF Hüttinger koaxiálny kábel, ktorý je skonštruovaný špeciálne na prevádzku v 50-ohmových systémoch.
Optimálne zvládnutie procesu plazmy
Plazmové procesy sa správajú ako zložitá, premenlivá záťaž, ktorá musí plynulo nasledovať zdroj prúdu cez generátor. Starajú sa o to aktívne adaptačné sieťové systémy, tzv. matchbox, ktoré v každom momente zabezpečujú presné nastavenie pre optimálnu impedanciu 50 Ohm. Vzniká tak perfektne vzájomne zosúladené systémové riešenie, TRUMPF RF systém. Pomocou rôznych prípojok, o.i. EtherCAT, môžete generátor a Matchbox veľmi jednoducho integrovať do Vášho jestvujúceho prostredia procesov a vďaka inteligentnému spojeniu generátora a adaptačného sieťového systému , takzvaného SystemPort, dosiahnuť optimálne systémové riešenie.
V závislosti od krajiny sú možné odchýlky od tohto sortimentu produktov. Zmeny v technike, výbave, cene a ponuke príslušenstva sú vyhradené. Spojte sa prosím s kontaktnou osobou u Vášho lokálneho partnera, ak si chcete overiť, či je produkt dostupný vo Vašej krajine.
